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公开(公告)号:CN111276602A
公开(公告)日:2020-06-12
申请号:CN202010092622.7
申请日:2020-02-14
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明公开了一种基于钨酸铋材料的非挥发性阻变存储器,通过脉冲激光沉积方法生长钌酸锶下电极钨酸铋薄膜,并通过掩膜版法制作铂上电极,完成BWO薄膜器件的制备。使用安捷伦安捷伦B1500A测量其I-V特性曲线,在双对数坐标系下,分析其内部导电机制符合空间电荷限制传导,且正方向具有优异的保持特性,BWO薄膜器件具有制备阻变存储器的潜力。使用安捷伦B1500A、Radiant铁电铁测试仪,对BWO阻变存储器的数据保持特性以及疲劳特性进行测试,评估BWO阻变存储器的可靠性。实验发现,BWO薄膜器件拥有优秀的阻变特性,且具备良好的保持和疲劳特性,可应用于阻变存储器件。
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公开(公告)号:CN111276602B
公开(公告)日:2023-09-26
申请号:CN202010092622.7
申请日:2020-02-14
Applicant: 北京工业大学
IPC: H10B63/00
Abstract: 本发明公开了一种基于钨酸铋材料的非挥发性阻变存储器,通过脉冲激光沉积方法生长钌酸锶下电极钨酸铋薄膜,并通过掩膜版法制作铂上电极,完成BWO薄膜器件的制备。使用安捷伦安捷伦B1500A测量其I‑V特性曲线,在双对数坐标系下,分析其内部导电机制符合空间电荷限制传导,且正方向具有优异的保持特性,BWO薄膜器件具有制备阻变存储器的潜力。使用安捷伦B1500A、Radiant铁电铁测试仪,对BWO阻变存储器的数据保持特性以及疲劳特性进行测试,评估BWO阻变存储器的可靠性。实验发现,BWO薄膜器件拥有优秀的阻变特性,且具备良好的保持和疲劳特性,可应用于阻变存储器件。
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