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公开(公告)号：CN102241201A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201110096887.5
申请日：2011-04-18
Applicant: 北京工业大学
IPC: B41J2/475
Abstract: 本发明公开了一种基于透明材料的激光熔化刻蚀打标装置和方法，解决了对透明材料高透射率的激光打标的难题，属微加工领域。该装置包括激光器、计算机、激光打标系统软件、运动控制系统、工作台、夹具、凹槽底座、导热介质、透明材料板。其中，激光器与计算机相连，工作台置于运动控制系统下方，导热介质平铺在凹槽底座，透明材料作盖板，用夹具将其固定在工作台上方。打标时激光通过运动控制系统聚焦在透明材料与导热介质的接触面，介质吸收激光能量转化为热量传导给紧密接触的透明材料，使其在极短时间达到熔化点，从而脱离基材，实现刻痕。本发明实现在透明材料上的激光熔化刻蚀打标，打标图案的分辨率和边缘锐度高，微沟槽底面粗糙度在微米级。
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公开(公告)号：CN101575695A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200910086810.2
申请日：2009-06-05
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C14/28
Abstract: 本发明公开了一种基于透明材料的激光镀膜装置和方法，属于微加工领域。该装置包括计算机、与计算机相连的激光器、安装在激光器上的激光控制系统、工作台、透明材料板、靶材和平板；其中：激光器与计算机相连，工作台设置在激光控制系统的下方，透明材料、靶材和平板从上到下依次放置在工作台上。镀膜时将靶材置于透明材料板的下面，激光从上面穿过透明材料照射在靶材上，靶材受热熔化溅射至靠近的透明基板上，高热量使透明材料基底产生微熔，从而在透明材料上形成镀层。本发明装置简单，成本低廉，可在透明材料表面镀覆微米级或纳米级厚度的膜层，精度高，可控性好，膜层具有良好的边缘锐度，膜层形状可通过计算机输出控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102241201B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110096887.5
申请日：2011-04-18
Applicant: 北京工业大学
IPC: B41J2/475
Abstract: 本发明公开了一种基于透明材料的激光熔化刻蚀打标装置和方法，解决了对透明材料高透射率的激光打标的难题，属微加工领域。该装置包括激光器、计算机、激光打标系统软件、运动控制系统、工作台、夹具、凹槽底座、导热介质、透明材料板。其中，激光器与计算机相连，工作台置于运动控制系统下方，导热介质平铺在凹槽底座，透明材料作盖板，用夹具将其固定在工作台上方。打标时激光通过运动控制系统聚焦在透明材料与导热介质的接触面，介质吸收激光能量转化为热量传导给紧密接触的透明材料，使其在极短时间达到熔化点，从而脱离基材，实现刻痕。本发明实现在透明材料上的激光熔化刻蚀打标，打标图案的分辨率和边缘锐度高，微沟槽底面粗糙度在微米级。
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公开(公告)号：CN101575695B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200910086810.2
申请日：2009-06-05
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C14/28
Abstract: 本发明公开了一种基于透明材料的激光镀膜装置和方法，属于微加工领域。该装置包括计算机、与计算机相连的激光器、安装在激光器上的激光控制系统、工作台、透明材料板、靶材和平板；其中：激光器与计算机相连，工作台设置在激光控制系统的下方，透明材料、靶材和平板从上到下依次放置在工作台上。镀膜时将靶材置于透明材料板的下面，激光从上面穿过透明材料照射在靶材上，靶材受热熔化溅射至靠近的透明基板上，高热量使透明材料基底产生微熔，从而在透明材料上形成镀层。本发明装置简单，成本低廉，可在透明材料表面镀覆微米级或纳米级厚度的膜层，精度高，可控性好，膜层具有良好的边缘锐度，膜层形状可通过计算机输出控制。
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公开(公告)号：CN202053685U
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN201120113919.3
申请日：2011-04-18
Applicant: 北京工业大学
IPC: B41J2/435
Abstract: 本实用新型公开了一种基于透明材料的激光熔化刻蚀打标装置，解决了对透明材料高透射率的激光打标的难题，属微加工领域。该装置包括激光器、计算机、激光打标系统软件、运动控制系统、工作台、夹具、凹槽底座、导热介质、透明材料板。激光器与计算机相连，工作台置于运动控制系统下方，导热介质平铺在凹槽底座，透明材料作盖板，用夹具将其固定在工作台上方。打标时激光通过运动控制系统聚焦在透明材料与导热介质的接触面，介质吸收激光能量转化为热量传导给紧密接触的透明材料，使其在极短时间达到熔化点，从而脱离基材，实现刻痕。本实用新型实现在透明材料上的激光熔化刻蚀打标，打标图案的分辨率和边缘锐度高，微沟槽底面粗糙度在微米级。
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公开(公告)号：CN201455548U
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200920109864.1
申请日：2009-07-20
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本实用新型一种用于激光加工系统的激光三维定位装置，包含一固定及调节装置，一点状光斑激光发生器，一对线形激光发生器，一第一开关用于控制点状激光发生器的开闭，一第二开关用于控制线形激光发生器的开闭，一用于给激光发生器提供电源的电池组。当激光加工系统本身无氦氖光时，点状光斑激光发生器产生的点状光斑与一对线形激光发生器产生的十字状光斑配合完成三维空间内的定位；当激光加工系统本身有同轴氦氖光时，只需一点状激光发生器产生的点状光斑与氦氖光产生的光斑配合即可完成三维空间定位。
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公开(公告)号：CN201567366U
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200920108974.6
申请日：2009-06-05
Applicant: 北京工业大学
IPC: C23C14/28
Abstract: 本实用新型公开了一种基于透明材料的激光镀膜装置，属于微加工领域。该装置包括计算机、与计算机相连的激光器、安装在激光器上的激光控制系统、工作台、透明材料板、靶材和平板；其中：激光器与计算机相连，工作台设置在激光控制系统的下方，透明材料、靶材和平板从上到下依次放置在工作台上。镀膜时将靶材置于透明材料板的下面，激光从上面穿过透明材料照射在靶材上，靶材受热熔化溅射至靠近的透明基板上，高热量使透明材料基底产生微熔，从而在透明材料上形成镀层。本实用新型装置简单，成本低廉，可在透明材料表面镀覆微米级或纳米级厚度的膜层，精度高，可控性好，膜层具有良好的边缘锐度，膜层形状可通过计算机输出控制。
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