Ⅲ族氮化物半导体发光二极管

    公开(公告)号:CN101290965B

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200810114715.4

    申请日:2008-06-11

    Abstract: 本发明涉及“III族氮化物半导体发光二极管”,属于化合物半导体技术领域。III族氮化物半导体发光二极管,其活性层为存在内部电场的量子阱结构,所述量子阱结构活性层由位于p型区域一侧的第一势垒层、量子阱层、和位于n型区域一侧的第二势垒层所构成的,其特征在于:所述量子阱层中插入第三势垒层,所述第三个势垒层的厚度满足以下条件:(1)由p型区域注入的空穴能被屏蔽在第三势垒层与位于p型区域一侧的第一势垒层之间;(2)由n型区域注入的电子能自由通过第三势垒层,向能量最低的区域移动。本发明通过插入第三势垒层,使电子和空穴的波动函数的空间重叠部分增大,发光复合效率增大,是插入第三势垒层之前的2-3倍。

    III族氮化物半导体发光二极管

    公开(公告)号:CN101290965A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810114715.4

    申请日:2008-06-11

    Abstract: 本发明涉及“III族氮化物半导体发光二极管”,属于化合物半导体技术领域。III族氮化物半导体发光二极管,其活性层为存在内部电场的量子阱结构,所述量子阱结构活性层由位于p型区域一侧的第一势垒层、量子阱层、和位于n型区域一侧的第二势垒层所构成的,其特征在于:所述量子阱层中插入第三势垒层,所述第三个势垒层的厚度满足以下条件:(1)由p型区域注入的空穴能被屏蔽在第三势垒层与位于p型区域一侧的第一势垒层之间;(2)由n型区域注入的电子能自由通过第三势垒层,向能量最低的区域移动。本发明通过插入第三势垒层,使电子和空穴的波动函数的空间重叠部分增大,发光复合效率增大,是插入第三势垒层之前的2-3倍。

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