一种检测集成电路制造工艺中工艺波动的检测电路

    公开(公告)号:CN103941178B

    公开(公告)日:2017-07-18

    申请号:CN201410165827.8

    申请日:2014-04-23

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种检测集成电路制造工艺中工艺波动的检测电路,所述电路包括环振电路、时钟缓冲级、第一数级反相器链N以及第二数级反相器链P;所述环振电路为反相器级联构成;所述第一数级反相器链N为反相器级联,并挂载D触发器构成;所述第二数级反相器链P为反相器级联,并挂载D触发器构成。本发明的一种检测集成电路制造工艺中工艺波动的检测电路可以把NMOS和PMOS的波动分别测量出来,并以数字化的方式输出,方便读取数据,且有利于在片上进行集成,用于后续的工艺波动补偿。

    一种检测集成电路制造工艺中工艺波动的检测电路

    公开(公告)号:CN103941178A

    公开(公告)日:2014-07-23

    申请号:CN201410165827.8

    申请日:2014-04-23

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种检测集成电路制造工艺中工艺波动的检测电路,所述电路包括环振电路、时钟缓冲级、第一数级反相器链N以及第二数级反相器链P;所述环振电路为反相器级联构成;所述第一数级反相器链N为反相器级联,并挂载D触发器构成;所述第二数级反相器链P为反相器级联,并挂载D触发器构成。本发明的一种检测集成电路制造工艺中工艺波动的检测电路可以把NMOS和PMOS的波动分别测量出来,并以数字化的方式输出,方便读取数据,且有利于在片上进行集成,用于后续的工艺波动补偿。

    一种测量阈值电压和饱和漏电流退化电路

    公开(公告)号:CN103323763A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310253482.7

    申请日:2013-06-24

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明涉及集成电路技术领域,特别涉及一种测量阈值电压和饱和漏电流退化电路。该电路包括:PMOS晶体管、NMOS晶体管、负载电容、电压比较器、第一数级反相器链和第二数级反相器链,上述部件组成一个三角波产生电路。本发明提供的测量阈值电压和饱和漏电流退化电路,采用将三角波产生电路与MOS晶体管的阈值电压及饱和漏电流的退化测试结合起来,将器件的特性与电路行为结合起来,可以从外部改变电路的工作条件,并且可以在各种不同的测试条件下,直接简便地测出阈值电压和饱和漏电流的退化情况。

    一种测量阈值电压和饱和漏电流退化电路

    公开(公告)号:CN103323763B

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201310253482.7

    申请日:2013-06-24

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明涉及集成电路技术领域,特别涉及一种测量阈值电压和饱和漏电流退化电路。该电路包括:PMOS晶体管、NMOS晶体管、负载电容、电压比较器、第一数级反相器链和第二数级反相器链,上述部件组成一个三角波产生电路。本发明提供的测量阈值电压和饱和漏电流退化电路,采用将三角波产生电路与MOS晶体管的阈值电压及饱和漏电流的退化测试结合起来,将器件的特性与电路行为结合起来,可以从外部改变电路的工作条件,并且可以在各种不同的测试条件下,直接简便地测出阈值电压和饱和漏电流的退化情况。

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