一种用石英砂法制备四氟化硅的方法

    公开(公告)号:CN101920962B

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201010239895.6

    申请日:2010-07-26

    Abstract: 本发明公开了一种用石英砂法制备四氟化硅的方法,其原料包括金属氟化物和二氧化硅,通过第一步是先将金属氟化物煅烧活化,活化金属氟化物与浓硫酸反应得到氟化氢气体,氟化氢气体经洗涤和冷却得到氟化氢液体,同时将二氧化硅与硫酸混合为二氧化硅预混浆料,第二步是将氟化氢液体、二氧化硅预混浆料与硫酸混合反应得到四氟化硅气体;本发明是一种原料转化率高,产品纯度高,杂质少,反应过程易控制的用石英砂法制备四氟化硅的方法。

    多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉

    公开(公告)号:CN101476153B

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN200810249626.0

    申请日:2008-12-25

    Abstract: 一种多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉。工艺包括将SiHCl3与H2混合,从底部进气口喷入从出气口排出;还原炉外壳夹套中通以冷却水;硅棒温度1050~1150℃,器内压力为0.5~0.7MPa;SiHCl3还原后的硅沉积在硅棒上等步骤。混合气体从还原炉的底部进气口喷入,从其顶部的出气口排出。还原炉包括底座、外壳、多对电极、细硅棒、进气口和出气口。外壳带有夹套,夹套上固定着进、出水口。进气口固定在底部,出气口固定在顶部封头上。它可避免上升气柱在底部的扩散,使之与硅棒充分接触。顶部不存在流体死区,硅棒上部硅沉积速度高。气体温度便于调控。加强了炉内气体湍动强化了传质,气体在炉内的停留时间长。大大提高了一次性转换率。

    一种苯选择性加氢制备环己烯反应装置及工艺

    公开(公告)号:CN102241558A

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN201110127661.7

    申请日:2011-05-13

    Abstract: 本发明涉及到一种苯选择性加氢制备环己烯反应装置及工艺,其包括用于对原料苯进行精制的苯精制器、用于混合氢气和催化剂浆料的气液混合器、作为选择性加氢的主要场所的静态混合反应器和用于分离静态混合反应器送来的反应产物和催化剂的分离罐。完成上述反应的工艺方法为:将原料苯送入苯精制器精制并换热至100~130℃,同时将催化剂浆料和氢气按一定比例送入具有一定压力的气液混合器中充分混合,但后将精制后的苯和混合后得到的催化剂浆料一起进入静态混合反应器,控制一定的反应温度、反应压力和液体流速,使各物料在静态混合反应器反应得到含有环己烯的混合物,将该混合物送入分离罐分离。与现有技术相比较,本发明反应平稳易控制,且苯转化率和环己烯的选择性更好。

    一种用石英砂法制备四氟化硅的方法

    公开(公告)号:CN101920962A

    公开(公告)日:2010-12-22

    申请号:CN201010239895.6

    申请日:2010-07-26

    Abstract: 本发明公开了一种用石英砂法制备四氟化硅的方法,其原料包括金属氟化物和二氧化硅,通过第一步是先将金属氟化物煅烧活化,活化金属氟化物与浓硫酸反应得到氟化氢气体,氟化氢气体经洗涤和冷却得到氟化氢液体,同时将二氧化硅与硫酸混合为二氧化硅预混浆料,第二步是将氟化氢液体、二氧化硅预混浆料与硫酸混合反应得到四氟化硅气体;本发明是一种原料转化率高,产品纯度高,杂质少,反应过程易控制的用石英砂法制备四氟化硅的方法。

    环己烷氧化系统尾气处理装置及处理方法

    公开(公告)号:CN102423601A

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN201110336474.X

    申请日:2011-10-31

    Abstract: 本发明涉及到一种环己烷氧化系统尾气处理装置,其特征在于包括:进口管路有三支的变温吸附塔,其中第一进口管路通过控制阀连接待处理尾气管线,第二进口管路通过控制阀连接加热器的第一接口,第三进口管路通过控制阀连接惰性气体管路的第一支路;变温吸附塔的出口管路有五支,其中,第一出口管路通过控制阀连接PSA制氮装置,第二出口管路通过控制阀连接气体动力输送管线,第三出口管路通过控制阀连接加热器的第二接口,第四出口管路通过控制阀连接冷却器的第一接口,第五出口管路通过控制阀高位放空;所述冷却器的第二接口连接气液分离器的入口,所述气液分离器的气体出口通过压缩机连接所述的惰性气体管路;所述惰性气体管路的第二支路通过控制阀连接所述加热器的第二接口。本发明运行稳定且节能效果好。

    多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉

    公开(公告)号:CN101476153A

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200810249626.0

    申请日:2008-12-25

    Abstract: 一种多晶硅的还原生产工艺及其生产用还原炉。工艺包括将SiHCI3与H2混合,从底部进气口喷入从出气口排出;还原炉外壳夹套中通以冷却水;硅棒温度1050~1150℃,器内压力为0.5~0.7MPa;SiHCI3还原后的硅沉积在硅棒上等步骤。混合气体从还原炉的底部进气口喷入,从其顶部的出气口排出。还原炉包括底座、外壳、多对电极、细硅棒、进气口和出气口。外壳带有夹套,夹套上固定着进、出水口。进气口固定在底部,出气口固定在顶部封头上。它可避免上升气柱在底部的扩散,使之与硅棒充分接触。顶部不存在流体死区,硅棒上部硅沉积速度高。气体温度便于调控。加强了炉内气体湍动强化了传质,气体在炉内的停留时间长。大大提高了一次性转换率。

    一种己二酸分离系统
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202322673U

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201120465279.2

    申请日:2011-11-21

    Abstract: 本实用新型涉及到一种己二酸分离系统,包括用于对己二酸浆料进行初步蒸发以除去部分硝酸和水的蒸发器以及对初步蒸发后的己二酸浆液离心分离出剩余硝酸和水的离心机,其特征在于所述蒸发器和所述离心机之间还设有缓冲罐,所述缓冲罐的入口连接所述蒸发器的浆料出口,所述缓冲罐的出口连接所述离心机的入口。与现有技术相比,本实用新型由于在蒸发器和离心机之间设置了用于储存蒸发器排放料的缓冲罐,这样离心机可以从缓冲罐内连续进料,使得己二酸分离系统可以连续操作,避免了间隙操作时设备的闲置问题,在降低设备投资和设备运转成本的前提下,增加了产能。

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