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发明公开
正交光栅的制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN119986884A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202510353264.3

申请日：2025-03-25

Applicant: 内蒙古工业大学

Inventor： 刘佳伟 , 郎风超 , 邢永明 , 侯小虎 , 赵学平 , 张海 , 张伟光 , 王时雨

IPC: G02B5/18

Abstract: 本发明属于纳米加工技术领域，具体公开了一种正交光栅的制备方法，包括在衬底上涂敷负性电子抗蚀剂并固化，得到带有抗蚀胶层的衬底；利用扫描电子显微镜对抗蚀胶层进行电子束曝光，扫描电子显微镜的放大倍数为2700至6700；对电子束曝光后的衬底进行显影及定影，得到频率为10000线/mm至25000线/mm的正交光栅。本发明利用扫描电子显微镜制备高频正交光栅，不需要图形发生器和掩模版，也不需要专业的电子束光刻系统，使高频正交光栅制备手段更加普遍、便利且成本较低。

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