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发明公开
钌除去用组合物审中-实审

公开(公告)号：CN112997278A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN201980074709.7

申请日：2019-11-13

Applicant: 关东化学株式会社

Inventor： 柏木一树 , 大和田拓央

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的目的在于提供一种可充分除去残存于基板的Ru，并且能够抑制RuO4气体的产生的除去用组合物。一种残存于基板的钌的除去用组合物，其中，25℃时的pH为8以上，包含1种或2种以上的pH缓冲成分。

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