公开(公告)号：CN118140178A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202280071247.5

申请日：2022-08-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 久保田芳宏 ,  簗瀬优 ,  竹内彩乃 ,  西村晃范 ,  野崎聡

IPC: G03F1/62

Abstract: [问题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的严苛的使用条件，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气口贴靠的过滤器的高性能化。[解决方案]本发明的防护膜包括：防护膜框架；极薄的防护膜片，设置于所述防护膜框架的上端面；通气口，设置于所述防护膜框架；以及过滤器，堵塞所述通气口，所述过滤器包含片材以及支撑体，所述片材的一部分或全部包含纳米纤维或碳纳米管中的至少一者，所述支撑体具有支撑所述片材的开口部。

公开(公告)号：CN117980819A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202280063585.4

申请日：2022-08-03

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 久保田芳宏 ,  簗瀬优 ,  竹内彩乃 ,  西村晃范

IPC: G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: [课题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的最大容许异物尺寸的降低以及供防护膜片暴露的严酷的气压的变动，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气孔贴靠的过滤器的高性能化。[解决手段]本发明的防护膜包括：防护膜框架3；防护膜片1，设置于所述防护膜框架的上端面；通气孔6，设置于所述防护膜框架；以及过滤器7，堵塞所述通气孔，所述过滤器的一部分或全部具有纳米纤维或碳纳米管中的至少一者所构成的不织布。