公开(公告)号：CN116774520A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202310253954.2

申请日：2023-03-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大友雄太郎 ,  小林知洋 ,  樋田源太郎 ,  大山皓介 ,  提箸正义 ,  福岛将大

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供边缘粗糙度、尺寸偏差小，分辨性优异，曝光后的图案形状良好，且保存稳定性亦良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的淬灭剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118838116A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202410502699.5

申请日：2024-04-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 樋田源太郎 ,  小林知洋 ,  铃木贵大

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/38 ,  G03F7/004

Abstract: 一种化学增幅负型抗蚀剂组合物和图案形成方法。[课题]提供具有高溶解对比度、优异的CDU和LWR性能的化学增幅负型抗蚀剂组合物，以及使用该组合物的图案形成方法。[解决手段]一种化学增幅负型抗蚀剂组合物，其包含(A)聚合物P和(B)交联剂X，所述聚合物P包含规定结构的通过曝光而产生酸的重复单元、规定结构的通过酸的作用发生分解而使相对于显影液的溶解性发生变化的重复单元、以及具有酚性羟基的重复单元，所述交联剂X为被选自羟甲基、烷氧基甲基和酰氧基甲基中的至少1种基团取代的、三聚氰胺化合物、甘脲化合物、脲化合物或环氧化合物。

公开(公告)号：CN116774519A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202310253950.4

申请日：2023-03-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 樋田源太郎 ,  小林知洋 ,  大友雄太郎 ,  野口智成

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的目的为提供具有更优于已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率、溶解对比度，边缘粗糙度、尺寸偏差小，且曝光后的图案形状良好的抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂材料，其特征为含有：(Ia)含有包含羟基或羧基的重复单元(A)的聚合物、(II)具有下式(1)表示的结构的交联剂、(III)具有下式(2)表示的结构的热酸产生剂、(IV)有机溶剂、及(V)会因为活性光线或放射线的照射而分解并产生酸的成分。#imgabs0#