公开(公告)号：CN105793777B

公开(公告)日：2020-02-18

申请号：CN201480066234.4

申请日：2014-12-10

Applicant: 佳能纳米技术公司

Inventor： G·S·哈瑟 ,  K·塞利尼迪斯 ,  叶正茂

IPC: G03F7/00

Abstract: 提供具有前导和尾部边缘边界的压印光刻术模板，压印光刻术模板在邻近区场之间实现了零间隙的压印，在位于如此区场之间的图形排斥区域(PEZ)内提供全特征的高度特征。前导边缘边界包括虚拟特征，例如，平行于台面边缘方向地定向的细长特征，同时尾部边缘边界包括延伸到台面边缘的凹陷。当使用在步进重复过程中时，尾部边缘边界交叠先前被模板的前导边缘边界形成图形的邻近压印区场的边缘部分，在如此区场之间的图形排斥区域内形成全特征高度特征，并避免如此区场之间的间隙或敞开区域以其它方式导致诸如蚀刻过程和CMP的下游过程的不均匀性。

公开(公告)号：CN105793777A

公开(公告)日：2016-07-20

申请号：CN201480066234.4

申请日：2014-12-10

Applicant: 佳能纳米技术公司

Inventor： G·S·哈瑟 ,  K·塞利尼迪斯 ,  叶正茂

IPC: G03F7/00

Abstract: 提供具有前导和尾部边缘边界的压印光刻术模板，压印光刻术模板在邻近区场之间实现了零间隙的压印，在位于如此区场之间的图形排斥区域(PEZ)内提供全特征的高度特征。前导边缘边界包括虚拟特征，例如，平行于台面边缘方向地定向的细长特征，同时尾部边缘边界包括延伸到台面边缘的凹陷。当使用在步进重复过程中时，尾部边缘边界交叠先前被模板的前导边缘边界形成图形的邻近压印区场的边缘部分，在如此区场之间的图形排斥区域内形成全特征高度特征，并避免如此区场之间的间隙或敞开区域以其它方式导致诸如蚀刻过程和CMP的下游过程的不均匀性。