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公开(公告)号：CN107272347B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201710207996.7
申请日：2017-03-31
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。该照射装置执行倾斜照射并且包括：第一光学元件，其由多个光学部件的阵列形成，各个光学部件被构造为产生点光源；以及第二光学元件，其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域，所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。
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公开(公告)号：CN104765248B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201510003778.2
申请日：2015-01-05
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供压印装置、压印方法以及物品的制造方法。所述压印装置包括控制单元，其被构造为进行检测处理，其中所述检测处理包括第一处理和第二处理，在所述第一处理中，使检测光学系统在以使得基准标记位于所述检测光学系统的视野外的方式定位基板台的状态下检测模具侧标记，在所述第二处理中，使所述检测光学系统在以使得所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的方式定位所述模具台并且以使得所述基准标记位于所述检测光学系统的视野内的方式定位所述基板台的状态下，检测所述基准标记。
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公开(公告)号：CN107561855A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710506145.2
申请日：2017-06-28
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 筱田健一郎
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/2014 , G03F7/0002
Abstract: 本发明提供一种模具、压印方法、压印装置和用于制造半导体制品的方法。该用于压印装置的模具包括形成有图案的图案部分和围绕图案部分的周边部分，其中，周边部分配设有遮光部分，该遮光部分阻挡用于固化压印材料的固化光并使用于对检测目标进行检测的检测光透射。
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公开(公告)号：CN107272347A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710207996.7
申请日：2017-03-31
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供照射装置、光学装置、压印装置、投影装置和物品的制造方法。该照射装置执行倾斜照射并且包括：第一光学元件，其由多个光学部件的阵列形成，各个光学部件被构造为产生点光源；以及第二光学元件，其被构造为接收来自所述第一光学元件的光并形成照射区域，所述第二光学元件在一个方向上的屈光力不同于所述第二光学元件在与所述一个方向垂直的方向上的屈光力，其中，所述第一光学元件和所述第二光学元件中的至少一个具有围绕光学元件的光轴的旋转角度，以对由所述倾斜照射而引起的所述照射区域的失真进行补偿。
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公开(公告)号：CN104765248A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201510003778.2
申请日：2015-01-05
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供压印装置、压印方法以及物品的制造方法。所述压印装置包括控制单元，其被构造为进行检测处理，其中所述检测处理包括第一处理和第二处理，在所述第一处理中，使检测光学系统在以使得基准标记位于所述检测光学系统的视野外的方式定位基板台的状态下检测模具侧标记，在所述第二处理中，使所述检测光学系统在以使得所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的方式定位所述模具台并且以使得所述基准标记位于所述检测光学系统的视野内的方式定位所述基板台的状态下，检测所述基准标记。
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