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公开(公告)号：CN104765248B
公开(公告)日：2019-11-08
申请号：CN201510003778.2
申请日：2015-01-05
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供压印装置、压印方法以及物品的制造方法。所述压印装置包括控制单元，其被构造为进行检测处理，其中所述检测处理包括第一处理和第二处理，在所述第一处理中，使检测光学系统在以使得基准标记位于所述检测光学系统的视野外的方式定位基板台的状态下检测模具侧标记，在所述第二处理中，使所述检测光学系统在以使得所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的方式定位所述模具台并且以使得所述基准标记位于所述检测光学系统的视野内的方式定位所述基板台的状态下，检测所述基准标记。
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公开(公告)号：CN110553583B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN201910465808.X
申请日：2019-05-31
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开涉及检测设备、方法、压印装置、平坦化设备和物品制造方法。检测设备包括照明光学系统和检测光学系统。照明光学系统被配置为照射第一衍射光栅和第二衍射光栅，第一衍射光栅在第一方向上具有第一周期，第二衍射光栅具有不同于第一周期的第二周期。检测光学系统被配置为检测被第一衍射光栅和第二衍射光栅衍射的光。照明光学系统包括被配置为在光瞳平面上形成第一极和与第一极相反的第二极的光学构件。照明光学系统使来自第一极和第二极的光从第一方向倾斜地入射第一衍射光栅和第二衍射光栅以照射第一衍射光栅和第二衍射光栅。检测光学系统检测被第一衍射光栅和第二衍射光栅中的一个衍射并且被另一个衍射光栅衍射的衍射光。
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公开(公告)号：CN103105127A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201210392532.5
申请日：2012-10-16
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G01D5/38 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01D5/34715 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G03F9/7038
Abstract: 一种检测器、压印装置以及物品制造方法，该检测器用于检测由形成在第一和第二物体上的标记衍射的衍射光分量的干涉光，该检测器包括：照明光学系统，被配置为形成包括第一极和第二极的强度分布，第一极和第二极对布置在第一物体上的第一标记和布置在第二物体上的第二标记进行照明；以及检测光学系统，被配置为检测由被照明光学系统照明的第一标记和第二标记衍射的光分量的干涉光。检测光学系统检测当第一极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量的干涉光。检测光学系统不检测当第二极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量。
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公开(公告)号：CN107305322B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201710274175.5
申请日：2017-04-25
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了测量设备、压印装置和制造产品、光量确定及调整的方法。用于测量对准标记之间的相对位置的测量设备包括能够以多个波长照明对准标记的照明单元，检测来自对准标记的光的检测单元，获得对准标记之间的相对位置的处理单元以及调整单元，该调整单元调整多个波长的光量之间的相对量，使得来自对准标记的检测光量之间的相对值落在预定范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107305322A
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201710274175.5
申请日：2017-04-25
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了测量设备、压印装置和制造产品、光量确定及调整的方法。用于测量对准标记之间的相对位置的测量设备包括能够以多个波长照明对准标记的照明单元，检测来自对准标记的光的检测单元，获得对准标记之间的相对位置的处理单元以及调整单元，该调整单元调整多个波长的光量之间的相对量，使得来自对准标记的检测光量之间的相对值落在预定范围内。
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公开(公告)号：CN104765248A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201510003778.2
申请日：2015-01-05
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供压印装置、压印方法以及物品的制造方法。所述压印装置包括控制单元，其被构造为进行检测处理，其中所述检测处理包括第一处理和第二处理，在所述第一处理中，使检测光学系统在以使得基准标记位于所述检测光学系统的视野外的方式定位基板台的状态下检测模具侧标记，在所述第二处理中，使所述检测光学系统在以使得所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的方式定位所述模具台并且以使得所述基准标记位于所述检测光学系统的视野内的方式定位所述基板台的状态下，检测所述基准标记。
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公开(公告)号：CN110553583A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910465808.X
申请日：2019-05-31
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开涉及检测设备、方法、压印装置、平坦化设备和物品制造方法。检测设备包括照明光学系统和检测光学系统。照明光学系统被配置为照射第一衍射光栅和第二衍射光栅，第一衍射光栅在第一方向上具有第一周期，第二衍射光栅具有不同于第一周期的第二周期。检测光学系统被配置为检测被第一衍射光栅和第二衍射光栅衍射的光。照明光学系统包括被配置为在光瞳平面上形成第一极和与第一极相反的第二极的光学构件。照明光学系统使来自第一极和第二极的光从第一方向倾斜地入射第一衍射光栅和第二衍射光栅以照射第一衍射光栅和第二衍射光栅。检测光学系统检测被第一衍射光栅和第二衍射光栅中的一个衍射并且被另一个衍射光栅衍射的衍射光。
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公开(公告)号：CN104792344B
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201510210155.2
申请日：2012-10-16
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G01D5/38 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01D5/34715 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G03F9/7038
Abstract: 一种检测器、压印装置以及物品制造方法，该检测器用于检测由形成在第一和第二物体上的标记衍射的衍射光分量的干涉光，该检测器包括：照明光学系统，被配置为形成包括第一极和第二极的强度分布，第一极和第二极对布置在第一物体上的第一标记和布置在第二物体上的第二标记进行照明；以及检测光学系统，被配置为检测由被照明光学系统照明的第一标记和第二标记衍射的光分量的干涉光。检测光学系统检测当第一极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量的干涉光。检测光学系统不检测当第二极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量。
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公开(公告)号：CN104792344A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201510210155.2
申请日：2012-10-16
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G01D5/38 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01D5/34715 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G03F9/7038
Abstract: 一种检测器、压印装置以及物品制造方法，该检测器用于检测由形成在第一和第二物体上的标记衍射的衍射光分量的干涉光，该检测器包括：照明光学系统，被配置为形成包括第一极和第二极的强度分布，第一极和第二极对布置在第一物体上的第一标记和布置在第二物体上的第二标记进行照明；以及检测光学系统，被配置为检测由被照明光学系统照明的第一标记和第二标记衍射的光分量的干涉光。检测光学系统检测当第一极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量的干涉光。检测光学系统不检测当第二极的光被照射在第一标记和第二标记上并被第一标记和第二标记衍射时生成的衍射光分量。
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