公开(公告)号：CN112596342B

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202011060197.X

申请日：2020-09-30

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开提供一种投影光学系统、扫描曝光装置以及物品制造方法。投影光学系统是使来自物面处的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面处的圆弧状良像范围的等倍的光学系统。所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别包括两个透镜，所述两个透镜具有非球面。

公开(公告)号：CN107621749B

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201710558573.X

申请日：2017-07-11

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 安藤美和子 ,  河野道生 ,  冈雅之

IPC: G03F1/38 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明涉及掩模、测量方法、曝光方法以及物品制造方法。一种掩模，具有第1、第2标记，该第1、第2标记用于对曝光在基板上的第1拍摄区域的位置与以对第1拍摄区域的一部分设置接合区域的方式曝光的第2拍摄区域的位置的偏离测量，第1标记是曝光在第1拍摄区域内的接合区域的标记，具有第1减光区域和光透射率与第1减光区域的光透射率不同的第1区域，第2标记是与第1标记叠合地曝光在第2拍摄区域内的接合区域的标记，具有第2减光区域和光透射率与第2减光区域的光透射率不同的第2区域，在将第1、第2标记重叠的情况下，第1标记的第1区域的边界处于第2标记的第2减光区域，第2标记的第2区域的边界处于第1标记的第1减光区域。

公开(公告)号：CN111247485A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201880068453.4

申请日：2018-10-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/28 ,  G02B7/32 ,  G02B7/40

Abstract: 一种曝光装置，被配置为包括：投影光学系统(PO)，用于将用于在基板上形成图案的曝光光束投影到基板(PL)上；遮光构件(PH1)，包括用于曝光光束通过的开口；聚焦检测单元，用于检测表示曝光光束的焦点位置与基板之间的未对准的散焦量；以及控制单元(CTR)，用于基于聚焦检测单元进行检测的结果在投影光学系统(PO)的光轴方向上移动遮光构件(PH1)。

公开(公告)号：CN1900828A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610105988.3

申请日：2006-07-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 高桥和弘 ,  三上晃司 ,  河野道生

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70091 ,  G03F7/70566

Abstract: 提供一种分辨力良好的曝光方法和装置。曝光装置使用来自光源的光和光学系统将标线片图形曝光到被曝光体；其特征在于：具有测量部分和控制部分；该测量部分对通过上述光学系统的上述光的偏振信息进行测量；该控制部分根据上述测量部分的测量结果对上述光源和上述光学系统中的至少一个的曝光参数进行控制；上述偏振光信息包含与光轴平行的相互直交的二方向的偏振光强度、偏振光强度比、偏振度、及相位差中至少一个。

公开(公告)号：CN112596342A

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN202011060197.X

申请日：2020-09-30

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20

Abstract: 本公开提供一种投影光学系统、扫描曝光装置以及物品制造方法。投影光学系统是使来自物面处的光轴外的圆弧状良像范围的光束依次经由第1折射光学系统、凹反射面、凸反射面、所述凹反射面、第2折射光学系统而成像于像面处的圆弧状良像范围的等倍的光学系统。所述第1折射光学系统以及所述第2折射光学系统分别包括两个透镜，所述两个透镜具有非球面。

公开(公告)号：CN111356955A

公开(公告)日：2020-06-30

申请号：CN201880069270.4

申请日：2018-10-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/00 ,  G02B7/02

Abstract: 一种曝光装置，包括：投影光学系统，该投影光学系统将曝光光投影到基板上以在基板上形成图案；遮光构件，包括允许由基板反射的光通过的开口；以及光接收元件，接收在由基板反射之后通过开口的光束，其中，根据由光接收元件接收到的光量来执行改变散焦量的聚焦控制。

公开(公告)号：CN1900828B

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200610105988.3

申请日：2006-07-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 高桥和弘 ,  三上晃司 ,  河野道生

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70091 ,  G03F7/70566

Abstract: 提供一种分辨力良好的曝光方法和装置。曝光装置使用来自光源的光和光学系统将标线片图形曝光到被曝光体；其特征在于：具有测量部分和控制部分；该测量部分对通过上述光学系统的上述光的偏振信息进行测量；该控制部分根据上述测量部分的测量结果对上述光源和上述光学系统中的至少一个的曝光参数进行控制；上述偏振光信息包含与光轴垂直的相互直交的二方向的偏振光强度、偏振光强度比、偏振度、及相位差中至少一个。

公开(公告)号：CN112445082B

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202010922291.5

申请日：2020-09-04

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供对投影光学系统中的凹面镜的小型化有利的曝光装置以及物品制造方法。提供一边对掩模及基板进行扫描一边对所述基板进行曝光的曝光装置。所述曝光装置具有将所述掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统。所述投影光学系统构成为包括第1凹面镜、凸面镜以及第2凹面镜，透过所述掩模的图案的光按照所述第1凹面镜、所述凸面镜以及所述第2凹面镜的顺序反射。在将利用来自所述掩模上的圆弧状的照明区域的所有物点的光束在所述第1凹面镜或所述第2凹面镜上形成的有效区域和与所述投影光学系统的光轴正交且在与所述基板平行的方向上延伸的直线的最小接近距离设为D、将形成于所述基板上的所述圆弧的最外周半径设为Ru时，满足0

公开(公告)号：CN111247485B

公开(公告)日：2022-10-11

申请号：CN201880068453.4

申请日：2018-10-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/28 ,  G02B7/32 ,  G02B7/40

Abstract: 一种曝光装置，被配置为包括：投影光学系统(PO)，用于将用于在基板上形成图案的曝光光束投影到基板(PL)上；遮光构件(PH1)，包括用于曝光光束通过的开口；聚焦检测单元，用于检测表示曝光光束的焦点位置与基板之间的未对准的散焦量；以及控制单元(CTR)，用于基于聚焦检测单元进行检测的结果在投影光学系统(PO)的光轴方向上移动遮光构件(PH1)。

公开(公告)号：CN112445082A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010922291.5

申请日：2020-09-04

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 河野道生

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供对投影光学系统中的凹面镜的小型化有利的曝光装置以及物品制造方法。提供一边对掩模及基板进行扫描一边对所述基板进行曝光的曝光装置。所述曝光装置具有将所述掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统。所述投影光学系统构成为包括第1凹面镜、凸面镜以及第2凹面镜，透过所述掩模的图案的光按照所述第1凹面镜、所述凸面镜以及所述第2凹面镜的顺序反射。在将利用来自所述掩模上的圆弧状的照明区域的所有物点的光束在所述第1凹面镜或所述第2凹面镜上形成的有效区域和与所述投影光学系统的光轴正交且在与所述基板平行的方向上延伸的直线的最小接近距离设为D、将形成于所述基板上的所述圆弧的最外周半径设为Ru时，满足0