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公开(公告)号：CN105388699B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201510522421.5
申请日：2015-08-24
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 安藤美和子
IPC: G03F1/44
Abstract: 本发明涉及一种评价用掩模、评价方法、曝光装置以及物品的制造方法。本发明的评价用掩模在评价使基板曝光的曝光装置的性能时使用，其特征在于，具有：第1图案及第2图案，用于评价所述曝光装置的第1性能；以及虚设图案，用于使包括所述第1图案的第1部分区域中的每单位面积的开口部和遮光部的第1比例、与包括所述第2图案的第2部分区域中的每单位面积的开口部和遮光部的第2比例的差分成为±10％以内。
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公开(公告)号：CN107621749A
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201710558573.X
申请日：2017-07-11
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及掩模、测量方法、曝光方法以及物品制造方法。一种掩模，具有第1、第2标记，该第1、第2标记用于对曝光在基板上的第1拍摄区域的位置与以对第1拍摄区域的一部分设置接合区域的方式曝光的第2拍摄区域的位置的偏离测量，第1标记是曝光在第1拍摄区域内的接合区域的标记，具有第1减光区域和光透射率与第1减光区域的光透射率不同的第1区域，第2标记是与第1标记叠合地曝光在第2拍摄区域内的接合区域的标记，具有第2减光区域和光透射率与第2减光区域的光透射率不同的第2区域，在将第1、第2标记重叠的情况下，第1标记的第1区域的边界处于第2标记的第2减光区域，第2标记的第2区域的边界处于第1标记的第1减光区域。
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公开(公告)号：CN107621749B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201710558573.X
申请日：2017-07-11
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及掩模、测量方法、曝光方法以及物品制造方法。一种掩模，具有第1、第2标记，该第1、第2标记用于对曝光在基板上的第1拍摄区域的位置与以对第1拍摄区域的一部分设置接合区域的方式曝光的第2拍摄区域的位置的偏离测量，第1标记是曝光在第1拍摄区域内的接合区域的标记，具有第1减光区域和光透射率与第1减光区域的光透射率不同的第1区域，第2标记是与第1标记叠合地曝光在第2拍摄区域内的接合区域的标记，具有第2减光区域和光透射率与第2减光区域的光透射率不同的第2区域，在将第1、第2标记重叠的情况下，第1标记的第1区域的边界处于第2标记的第2减光区域，第2标记的第2区域的边界处于第1标记的第1减光区域。
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公开(公告)号：CN105388699A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510522421.5
申请日：2015-08-24
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 安藤美和子
IPC: G03F1/00
Abstract: 本发明涉及一种评价用掩模、评价方法、曝光装置以及物品的制造方法。本发明的评价用掩模在评价使基板曝光的曝光装置的性能时使用，其特征在于，具有：第1图案及第2图案，用于评价所述曝光装置的第1性能；以及虚设图案，用于使包括所述第1图案的第1部分区域中的每单位面积的开口部和遮光部的第1比例、与包括所述第2图案的第2部分区域中的每单位面积的开口部和遮光部的第2比例的差分成为±10％以内。
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