磁阻元件、使用其的存储器元件以及相关记录/再现方法

    公开(公告)号:CN100490003C

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN02120600.7

    申请日:2002-03-19

    Abstract: 本发明涉及一种磁阻元件,使用磁阻元件的存储元件、使用存储元件的MRAM、以及用于该MRAM的记录/再现方法,其中一磁阻元件包括第一、第二和第三磁层和非磁性层。第一磁层被垂直磁化到薄膜表面。第二磁层被垂直磁化到薄膜表面并具有比所述第一磁层的矫顽力高的矫顽力。非磁性层被插在第一和第二磁层间。第三磁层具有比所述第一磁层的矫顽力高的矫顽力并且逆平行地磁化到第二磁层。所述第一磁层、所述非磁性层、所述第二磁层以及所述第三磁层按该顺序形成。

    检测器和检测方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1947016B

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN200580013462.6

    申请日:2005-04-22

    CPC classification number: G01N33/58 B01L3/5027

    Abstract: 本发明涉及这样一种方法,即,在该方法中,磁性粒子被用作标记粒子,通过向由于生化反应保留的磁性粒子施加高频磁场并产生热量,检测与磁性粒子的数量对应的物理量的变化,并且在样品溶液中包含的材料被检测。诸如抗原的目标材料可容易地被定量检测。

    磁阻元件、使用其的存储器元件以及相关记录/再现方法

    公开(公告)号:CN1389870A

    公开(公告)日:2003-01-08

    申请号:CN02120600.7

    申请日:2002-03-19

    Abstract: 本发明涉及一种磁阻元件,使用磁阻元件、使用磁阻元件的存储器元件以及用于该存储器元件的记录/再现方法,其中一磁阻元件包括第一、第二和第三磁层和非磁性层。第一磁层被垂直磁化到薄膜表面。第二磁层被垂直磁化到薄膜表面并具有比所述第一磁层的矫顽力高的矫顽力。非磁性层被插在第一和第二磁层间。第三磁层具有比所述第一磁层的矫顽力高的矫顽力并且逆平行地磁化到第二磁层。同时还公开了一种存储元件和记录/再现方法。

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