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公开(公告)号：CN109073968A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780022031.9
申请日：2017-03-17
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 刘卫军 , 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫 , 叶正茂 , 伊藤俊树
Abstract: 一种从压印的纳米压印光刻基材除去未固化的预处理组合物的纳米压印光刻方法。该方法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层，和将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上，压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分铺展超出其目标区域，在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，并且使复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层和预处理涂层的未固化部分，并且从纳米压印光刻基材除去预处理涂层的未固化部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106165064A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201580017358.8
申请日：2015-04-07
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02
CPC classification number: B29C43/58 , B29C43/021 , B29C2043/025 , B29C2043/3222 , B29C2043/3652 , B29C2043/5866 , G03F7/0002
Abstract: 提供一种用于使施加于基板上的树脂与模具接触以在基板上执行构图的压印装置。所述压印装置包括：用于保持基板的基板保持单元，其中，基板保持单元包含沿预先确定的方向布置的多个保持区域，多个保持区域分别基于沿所述方向的位置沿所述方向具有不同的宽度尺寸，以及，分别具有不同宽度尺寸的多个保持区域的两个保持区域之间的表面积比处于0.8～1.2的范围内。
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公开(公告)号：CN107942617A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201710931985.3
申请日：2017-10-10
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B29C59/002 , B29C37/0025 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2059/023 , B29K2105/0058 , B29L2031/3425 , G03F7/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , B29C43/003 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 公开了控制压印材料扩散的方法。在可用于压印光刻的基板上具有限定压印场的位置，所述压印场还由内部区域、围绕所述内部区域的周边区域以及边界进一步限定，其中所述周边区域还包括流体控制特征。允许在压印场位置处沉积在基板上的可聚合材料在基板上扩散，其中流体控制凹凸特征使得可聚合材料的扩散重新定向，以在然后执行进一步的压印光刻技术时最小化可聚合材料扩散超过压印场边界。
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公开(公告)号：CN109073968B
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201780022031.9
申请日：2017-03-17
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 蒂莫西·布赖恩·斯塔霍维亚克 , 刘卫军 , 尼亚兹·科斯纳蒂诺夫 , 叶正茂 , 伊藤俊树
Abstract: 一种从压印的纳米压印光刻基材除去未固化的预处理组合物的纳米压印光刻方法。该方法包括将预处理组合物配置在纳米压印光刻基材上以形成预处理涂层，和将压印抗蚀剂的离散部分配置在预处理涂层上，压印抗蚀剂的各离散部分覆盖纳米压印光刻基材的目标区域。随着压印抗蚀剂的各离散部分铺展超出其目标区域，在纳米压印光刻基材上形成复合聚合性涂层，并且使复合聚合性涂层与纳米压印光刻模板接触。使复合聚合性涂层聚合以在纳米压印光刻基材上产生复合聚合物层和预处理涂层的未固化部分，并且从纳米压印光刻基材除去预处理涂层的未固化部分。
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公开(公告)号：CN106864058B
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201611125066.9
申请日：2016-12-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41K3/36
Abstract: 本申请涉及一种压印装置，其包括：基底保持件，所述基底保持件具有吸附区域和凹形支撑段；以及模板保持件，其中，吸附区域面积大于模板区域面积。本申请还涉及一种压印装置，其包括：气体区段；以及气体控制器，所述气体控制器构造成调节气体区段内的压力，以得到与压印装置一起使用的工件的局部域的凸形曲率。本申请还涉及一种方法，其包括：在压印装置内设置工件，其中，工件包括基底和可成形材料；以及使模板在与局部域的外周间隔开的位置处与可成形材料初步接触。在特定的实施例中，所述方法还包括调整基底以形成使模板与可成形材料接触的凸形形状。
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公开(公告)号：CN106864058A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201611125066.9
申请日：2016-12-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B41K3/36
Abstract: 本申请涉及一种压印装置，其包括：基底保持件，所述基底保持件具有吸附区域和凹形支撑段；以及模板保持件，其中，吸附区域面积大于模板区域面积。本申请还涉及一种压印装置，其包括：气体区段；以及气体控制器，所述气体控制器构造成调节气体区段内的压力，以得到与压印装置一起使用的工件的局部域的凸形曲率。本申请还涉及一种方法，其包括：在压印装置内设置工件，其中，工件包括基底和可成形材料；以及使模板在与局部域的外周间隔开的位置处与可成形材料初步接触。在特定的实施例中，所述方法还包括调整基底以形成使模板与可成形材料接触的凸形形状。
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