基板托架以及使用了该托架的基板处理装置

    公开(公告)号:CN102760679A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210128524.X

    申请日:2012-04-27

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制粒子的产生、构造物对基板处理造成的影响,改善基板温度控制性,进而对应于量产装置易于拆卸基板的基板托架。用于保持基板的基板托架具备托架主体、和包括载置基板的基板载置部的基板载置板,所述托架主体包括以使所述基板的应处理的部分露出的方式保持所述基板的周端部的基板保持部、和被配置比所述基板保持部更靠外侧的磁铁,以使所述托架主体通过磁力保持所述基板载置板。

    负载锁定装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114127332B

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202080051147.7

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 负载锁定装置具备:负载锁定室,所述负载锁定室具有与传递室连接的第一搬运口和与装载室连接的第二搬运口,所述传递室与减压处理装置连接;基板保持件,所述基板保持件在所述负载锁定室中保持基板;驱动机构,所述驱动机构以使所述基板保持件升降的方式配置于所述负载锁定室的下方,并经由连结构件与所述基板保持件连结;延长室,所述延长室从所述负载锁定室的下部向侧方延长;以及泵,所述泵配置于所述延长室的下方,并经由所述延长室排出所述负载锁定室的气体。所述延长室具有在从所述基板保持件的铅垂下方偏离的位置具有开口的底面,所述泵与所述开口连接。

    负载锁定装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114127332A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202080051147.7

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 负载锁定装置具备:负载锁定室,所述负载锁定室具有与传递室连接的第一搬运口和与装载室连接的第二搬运口,所述传递室与减压处理装置连接;基板保持件,所述基板保持件在所述负载锁定室中保持基板;驱动机构,所述驱动机构以使所述基板保持件升降的方式配置于所述负载锁定室的下方,并经由连结构件与所述基板保持件连结;延长室,所述延长室从所述负载锁定室的下部向侧方延长;以及泵,所述泵配置于所述延长室的下方,并经由所述延长室排出所述负载锁定室的气体。所述延长室具有在从所述基板保持件的铅垂下方偏离的位置具有开口的底面,所述泵与所述开口连接。

    搬运方法
    6.
    发明公开
    搬运方法 审中-实审

    公开(公告)号:CN118213259A

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202410335147.X

    申请日:2020-09-02

    Abstract: 本发明涉及一种从装载室经由负载锁定装置向与减压处理装置连接的传递室搬运基板的搬运方法。负载锁定装置具备:负载锁定室,所述负载锁定室具有与传递室连接的第一搬运口和与装载室连接的第二搬运口,传递室与减压处理装置连接;基板保持件,所述基板保持件在负载锁定室中保持基板;驱动机构,所述驱动机构以使基板保持件升降的方式配置于负载锁定室的下方,并经由连结构件与基板保持件连结;延长室,所述延长室从负载锁定室的下部向侧方延长;以及泵,所述泵配置于延长室的下方,并经由所述延长室排出所述负载锁定室的气体。延长室具有在从基板保持件的铅垂下方偏离的位置具有开口的底面,泵与所述开口连接。

    溅镀装置及膜形成方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117881813A

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202180101848.1

    申请日:2021-08-31

    Abstract: 溅镀装置具备:处理室;基板保持器,其在前述处理室之中的处理空间以基板保持面保持基板;第1靶保持器,其将第1靶保持为前述第1靶的第1表面面向前述处理空间;以及第2靶保持器,其将第2靶保持为前述第2靶的第2表面面向前述处理空间;前述第1靶保持器将前述第1靶保持为,相对于包含前述基板保持面的假想平面的前述第1表面的法线向量即第1法线向量的正投影向量朝向从前述基板远离的方向,前述第2靶保持器将前述第2靶保持为,相对于前述假想平面的前述第2表面的法线向量即第2法线向量的正投影向量朝向从前述基板远离的方向。

    基板托架以及使用了该托架的基板处理装置

    公开(公告)号:CN102760679B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201210128524.X

    申请日:2012-04-27

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制粒子的产生、构造物对基板处理造成的影响,改善基板温度控制性,进而对应于量产装置易于拆卸基板的基板托架。用于保持基板的基板托架具备托架主体、和包括载置基板的基板载置部的基板载置板,所述托架主体包括以使所述基板的应处理的部分露出的方式保持所述基板的周端部的基板保持部、和被配置比所述基板保持部更靠外侧的磁铁,以使所述托架主体通过磁力保持所述基板载置板。

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