公开(公告)号：CN1968752A

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN200580019415.2

申请日：2005-04-19

Applicant: 住友金属工业株式会社 ,  住友钛株式会社

Inventor： 西原克浩 ,  正木康浩 ,  福田匡 ,  冈田克己 ,  下崎新二 ,  永冈佐太延 ,  菅野英明 ,  东和臣 ,  小笠原忠司

IPC: B01J35/02 ,  B32B9/00 ,  C09D1/00

Abstract: 本发明提供一种可见光应答型的高活性氧化钛系光催化剂，其通过在有水解性化合物的气氛下，对用氨或胺以终点pH为7以下的条件中和酸性钛化合物而得到的(氢)氧化钛原料进行热处理，之后使其与水接触，进而以350℃以上的温度进行热处理而制造的。得到的氧化钛系光催化剂由比面积为120m2/g以下且表面羟基的量为600μeq/g以上的氧化钛构成。优选为表面羟基的密度为8μeq/m2以上，表面羟基的末端型羟基量(T)与桥型羟基量(B)的比为T/B≥0.20。该氧化钛系光催化剂具有：有主波谱的g值为1.993～2.003以及2.003～2.011这2种三重线信号的ESR波谱，也可以利用这些信号的可见光照射前、照射中以及照射刚刚停止后的强度比与以往品的不同来鉴别。

公开(公告)号：CN102203330A

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200980143619.5

申请日：2009-08-28

Applicant: 住友金属工业株式会社

Inventor： 龟井一人 ,  楠一彦 ,  矢代将齐 ,  八内昭博 ,  下崎新二

IPC: C30B29/36 ,  C30B19/04

CPC classification number: C30B19/04 ,  C30B9/10 ,  C30B19/02 ,  C30B19/10 ,  C30B29/36

Abstract: 一种方法，其可以通过使用以Si合金的熔体为溶剂的SiC溶液的液相生长技术来稳定地制造适于各种器件使用的、载流子密度为5×1017/cm3以下、优选为小于1×1017/cm3的低载流子密度的SiC单晶薄膜或块状晶体，该方法使用具有如下组成的合金作为Si合金：以SixCryTiz表示，且x、y和z(分别为原子％)满足(1)0.50＜x＜0.68、0.08＜y＜0.35以及0.08＜z＜0.35、或(2)0.40＜x≤0.50、0.15＜y＜0.40以及0.15＜z＜0.35。x、y和z优选满足0.53＜x＜0.65、0.1＜y＜0.3以及0.1＜z＜0.3。

公开(公告)号：CN1655869A

公开(公告)日：2005-08-17

申请号：CN03811962.5

申请日：2003-03-20

Applicant: 住友钛株式会社 ,  住友金属工业株式会社

Inventor： 冈田克己 ,  西原克浩 ,  下崎新二 ,  正木康浩 ,  梶村治彦 ,  小田孝治 ,  高桥通泰 ,  矢尾正 ,  永冈佐太延 ,  小笠原忠司 ,  渡边宗敏

IPC: B01J35/02 ,  B01J27/135 ,  B01J27/10 ,  B01J27/128 ,  B01J27/132 ,  B01J37/02 ,  B01J37/08

CPC classification number: B01J35/004 ,  B01D53/8609 ,  B01D53/8612 ,  B01D53/8628 ,  B01D53/8634 ,  B01D53/8662 ,  B01D2255/802 ,  B01J21/063 ,  B01J23/18 ,  B01J27/132 ,  B01J27/135 ,  B01J35/002 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/22

Abstract: 在二氧化钛中含有金属卤化物，并由二氧化钛和/或其前体(所述二氧化钛和/或其前体可以任选进行热处理)通过与含有由式MXn或MOXn(其中M＝金属，X＝卤素，n＝整数)表示的金属卤化物的反应气体接触、加热而制备出的二氧化钛基光催化剂，它稳定地表现出对于可见光辐照的高光催化活性。所述光催化剂可以随后通过与水接触或热处理而稳定，和/或通过与同多酸和/或杂多酸接触而改善，以使在二氧化钛中包括金属配合物。以该种方式制备的光催化剂表现出新的ESR特征。本发明也提供用于制备这些光催化剂，光催化剂分散体和含有所述光催化剂的光催化涂层流体的方法，提供光催化功能产品和使用所述光催化剂制造所述光催化功能产品的方法。