射束引出狭缝结构及离子源

    公开(公告)号:CN105529236A

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201510665760.9

    申请日:2015-10-15

    Inventor: 佐藤正辉

    CPC classification number: H01J37/3171 H01J37/08 H01J2237/083 H01J37/02

    Abstract: 本发明提供一种有助于提高离子注入装置的生产率的射束引出狭缝结构及离子源。本发明的射束引出狭缝结构具备:等离子室内侧表面(66),使用时与等离子接触;等离子室外侧表面(67),与引出电极对置;及狭缝表面部(68),在射束引出方向上在等离子室内侧表面(66)与等离子室外侧表面(67)之间形成射束引出狭缝(42)。狭缝表面部(68)具备:等离子界面固定部(69),将等离子的等离子界面保持为固定;及等离子界面非固定部(70),将等离子的等离子界面保持为可向射束引出方向移动。等离子界面固定部(69)形成于狭缝长边方向上的等离子的高密度区域。等离子界面非固定部(70)形成于狭缝长边方向上的等离子的低密度区域。

    射束引出狭缝结构及离子源

    公开(公告)号:CN105529236B

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201510665760.9

    申请日:2015-10-15

    Inventor: 佐藤正辉

    Abstract: 本发明提供一种有助于提高离子注入装置的生产率的射束引出狭缝结构及离子源。本发明的射束引出狭缝结构具备:等离子室内侧表面(66),使用时与等离子接触;等离子室外侧表面(67),与引出电极对置;及狭缝表面部(68),在射束引出方向上在等离子室内侧表面(66)与等离子室外侧表面(67)之间形成射束引出狭缝(42)。狭缝表面部(68)具备:等离子界面固定部(69),将等离子的等离子界面保持为固定;及等离子界面非固定部(70),将等离子的等离子界面保持为可向射束引出方向移动。等离子界面固定部(69)形成于狭缝长边方向上的等离子的高密度区域。等离子界面非固定部(70)形成于狭缝长边方向上的等离子的低密度区域。

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