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公开(公告)号：CN104661910A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201480002467.8
申请日：2014-05-14
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明公开一种压载水处理设备，其配备有：排出路径，其从储存压载水的压载罐排出压载水；紫外线照射装置，其包括紫外线灯且用紫外光照射通过排出路径的压载水；循环路径，其形成为使得压载水从中循环通过且被从紫外线灯发出的紫外光照射；切换部，其用于使压载水流经的路径在循环路径与排出路径之间切换；以及控制装置，其控制切换部以使得在紫外线灯的接通过程中压载水流经循环路径且控制切换部以使得当紫外线灯的接通完成时压载水流经排出路径。
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公开(公告)号：CN102576659A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201180004270.4
申请日：2011-06-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L21/02378 , H01L21/0243 , H01L21/02433 , H01L21/02529 , H01L21/02631 , H01L21/0475 , H01L29/045 , H01L29/1608 , H01L29/66068
Abstract: 第一碳化硅衬底(11)具有与支撑部(30)相连接的第一背面(B 1)、与第一背面(B 1)相反的第一正面(T 1)以及将第一背面(B 1)和第一正面(T 1)彼此连接的第一侧面(S 1)。第二碳化硅衬底(12)具有与支撑部(30)相连接的第二背面(B2)、与第二背面(B2)相反的第二正面(T2)以及将第二背面(B2)和第二正面(T2)彼此连接的第二侧面(S2)，并且在第一侧面(S 1)和第二侧面(S2)之间形成有间隙(GP)。封闭部(21)封闭间隙(GP)。由此，能够防止异物残留在复合衬底中提供的多个碳化硅衬底之间的间隙中。
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公开(公告)号：CN102379025A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201080015066.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L21/02 , C30B29/36 , H01L21/336 , H01L29/12 , H01L29/78
CPC classification number: H01L29/7802 , C30B29/36 , C30B33/06 , H01L21/02378 , H01L21/02433 , H01L21/02447 , H01L21/02529 , H01L21/2007 , H01L29/1608 , H01L29/66068 , H01L29/7813
Abstract: 本发明提供了一种制造碳化硅衬底的方法，其包括以下步骤：提供包括碳化硅的基础衬底(10)和包括单晶碳化硅的SiC衬底(20)；通过彼此堆叠所述基础衬底(10)和所述SiC衬底(20)，使得衬底的主表面(10A，20B)彼此接触来准备堆叠衬底；加热所述堆叠衬底以彼此接合基础衬底(10)和SiC衬底(20)，以制造接合衬底(3)；以及加热所述接合衬底(3)，使得在基础衬底(10)和SiC衬底(20)之间形成温度差，以制造接合衬底(3)，其中基础衬底(10)和SiC衬底(20)之间的接合界面(15)中形成的空洞(30)被消除到外部。
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公开(公告)号：CN102334176A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201080009653.6
申请日：2010-09-28
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/12 , H01L29/78
CPC classification number: H01L29/66068 , H01L21/02529 , H01L21/02609 , H01L21/187 , H01L29/7802
Abstract: 本发明提供了一种碳化硅衬底(81)，其具有衬底区域(R1)和支撑部(30)。该衬底区域(R1)具有第一单晶衬底(11)。支撑部(30)连接到第一单晶(11)的第一背面(B1)。第一单晶衬底(11)的位错密度小于支撑部(30)的位错密度。衬底区域(R1)和支撑部(30)中的至少一个具有空洞。
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公开(公告)号：CN102958834A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201280001101.X
申请日：2012-01-26
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: C30B29/36 , C01B32/956 , C01P2004/60 , C01P2004/61 , C01P2006/80 , C30B35/007 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明提供一种碳化硅晶体生长用碳化硅粉末和制造所述碳化硅粉末的方法。通过将硅小片(1)与碳粉末(2)的混合物(3)进行加热并其后将所述混合物粉碎而形成所述碳化硅粉末且所述碳化硅粉末基本由碳化硅构成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102668030A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201180004269.1
申请日：2011-06-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L21/203 , H01L29/12 , H01L29/78
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L21/02002 , H01L21/02529 , H01L21/02609 , H01L21/02667 , H01L29/045 , H01L29/1608 , H01L29/66068
Abstract: 第一单晶碳化硅衬底(11)的第一顶点(P1)和第二单晶碳化硅衬底(12)的第二顶点(P2)彼此邻接，使得第一单晶碳化硅衬底(11)的第一边(S 1)和第二单晶碳化硅衬底(12)的第二边(S2)对准。另外，第一边(S 1)的至少一部分和第二边(S2)的至少一部分与第三单晶碳化硅衬底(13)的第三边(S3)邻接。因此，在制造包括复合衬底的半导体器件中，能够抑制由单晶碳化硅衬底之间的空隙而引起的工艺波动。
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公开(公告)号：CN102549715A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201080042620.1
申请日：2010-09-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L21/336 , H01L29/12 , H01L29/78
CPC classification number: C30B29/36 , C30B23/00 , H01L21/02002 , Y10T428/192
Abstract: 一种SiC晶锭(10a)，其设置有：底面(12a)，其具有四个边；四个侧面(12b，12c，12d，12e)，该四个侧面在与所述底面(12a)的方向相交的方向上从所述底面(12a)延伸；以及生长面(12f)，其与所述侧面(12b，12c，12d，12e)连接，并位于相对于所述底面(12a)的相反侧上。所述底面(12a)、所述侧面(12b，12c，12d，12e)以及所述生长面(12f)中的至少一个是{0001}面、{1-100}面、{11-20}面或相对于这些面具有10°以内的倾斜的面。
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公开(公告)号：CN102511074A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201180003852.0
申请日：2011-02-25
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/336 , H01L29/12 , H01L29/78
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L21/2007 , H01L21/3247 , H01L29/045 , H01L29/1608 , H01L29/66068
Abstract: 本发明公开了一种能够降低制造成本的用于制造碳化硅衬底的方法，该方法包括下列步骤：准备基底衬底(10)和SiC衬底(20)；通过在彼此的顶部上放置基底衬底(10)和SiC衬底(20)来制造层叠衬底；通过加热接合衬底来制作接合衬底(3)；通过加热接合衬底(3)使基底衬底(10)的温度高于SiC衬底(20)的温度而使在接合界面(15)处形成的空洞(30)在接合衬底(3)的厚度方向上移动；以及通过去除在与SiC衬底(20)相反侧上包括主要衬底(10B)的基底衬底(10)的区域来去除空洞(30)。
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公开(公告)号：CN104661910B
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201480002467.8
申请日：2014-05-14
Applicant: 住友电气工业株式会社
Abstract: 本发明公开一种压载水处理设备，其配备有：排出路径，其从储存压载水的压载罐排出压载水；紫外线照射装置，其包括紫外线灯且用紫外光照射通过排出路径的压载水；循环路径，其形成为使得压载水从中循环通过且被从紫外线灯发出的紫外光照射；切换部，其用于使压载水流经的路径在循环路径与排出路径之间切换；以及控制装置，其控制切换部以使得在紫外线灯的接通过程中压载水流经循环路径且控制切换部以使得当紫外线灯的接通完成时压载水流经排出路径。
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公开(公告)号：CN106457096A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580025805.4
申请日：2015-06-16
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: B01D39/1692 , B01D33/06 , B01D39/083 , B01D39/16 , B01D2201/127 , B63B13/00 , C02F1/004 , C02F1/32 , C02F2103/08 , C02F2201/006
Abstract: 一种褶皱式滤筒具有：褶皱式过滤器，其包含过滤器基材，过滤器基材具有包括重复的峰部和谷部的折叠部并且其轴向是折叠部的脊线方向；以及固定部件，其位于褶皱式过滤器的上底部和下底部。褶皱式滤筒包括位于峰部中的用于折叠部的加强结构，峰部是朝向圆筒形状的外侧突出的部分。该加强结构包括以下两者：树脂加强结构，其具有作为其加强体的树脂，该树脂覆盖折叠部中的基材的表面，或者该树脂浸透在折叠部中的基材中；以及部件加强结构，其具有加强部件，加强部件与过滤器基材分离并且被设置成跟随折叠部。
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