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公开(公告)号:CN112514046B
公开(公告)日:2024-02-27
申请号:CN201980049649.3
申请日:2019-08-02
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 一种静电卡盘装置,具备设置有载置面的载置台、聚焦环及冷却机构,在载置台的保持部设置包围其周围的圆环状的槽部和向槽部的底面开口的贯穿孔,在保持部中,槽部的宽度方向两侧的上表面为与聚焦环接触并保持的保持面,保持面由槽部内周侧的内周面和比槽部更靠外周侧的外周面构成,保持面满足:条件(i),保持面为在厚度方向的截面中连接与保持面的最内周对应的第1点和与保持面的最外周对应的第2点的直线从所述第1点向所述第2点具有正的斜率或负的斜率的形状,且0≤|在保持面的厚度方向的截面中与最内周对应的第1点的高度‑与最外周对应的第2点的高度|≤10μm;条件(ii),内周面及外周面的泄漏面积小于0.7mm2。
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公开(公告)号:CN111108590B
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN201880060146.1
申请日:2018-09-12
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 本发明的目的在于,减少晶片的面内的蚀刻变得不均的情况。本发明的静电卡盘装置具备:静电卡盘部,具有载置试样的试样载置面且具有静电吸附用第1电极;冷却基部,相对于静电卡盘部载置于与试样载置面相反的一侧且冷却静电卡盘部;及粘接层,将静电卡盘部和冷却基部粘接在一起,冷却基部具有作为RF电极的第2电极的功能,在静电卡盘部与冷却基部之间具有RF电极或LC调整用第3电极,第3电极与静电卡盘部及冷却基部粘接且与冷却基部绝缘。
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公开(公告)号:CN111684574B
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN201980011884.1
申请日:2019-02-19
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/3065 , H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明的静电卡盘装置具备:载置台,设置有载置板状试样的载置面;圆环状的聚焦环;及冷却机构,冷却聚焦环,载置台具有围着载置面的周围设置的保持部,保持部上设置有包围载置面的周围的圆环状的槽部和向槽部的底面开口的贯穿孔,贯穿孔中插入有筒状的绝缘子,在保持部中,槽部的宽度方向两侧的上表面为与聚焦环接触并保持聚焦环的保持面,保持面满足下述条件(i)~(iii)。(i)表面粗糙度为0.05μm以下。(ii)平坦度为20μm以下。(iii)不具有沿与保持面交叉的方向延伸的深度1.0μm以上的凹部。
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公开(公告)号:CN111480222A
公开(公告)日:2020-07-31
申请号:CN201980006442.8
申请日:2019-07-19
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 静电卡盘装置(1)具备:静电卡盘部(2),具备具有载置板状试样W的载置面(11a)的基材(11)及将板状试样(W)静电吸附于载置面(11a)的静电吸附用内部电极(13);冷却用基部(3),冷却静电卡盘部(2);及粘接剂层(4),介于静电卡盘部(2)与冷却用基部(3)之间,基材(11)的载置面的形状呈凹面(23)或凸面,并且不包括拐点,该凹面(23)或凸面为从载置面(11a)的中心(11b)朝向载置面(11a)的外周(11c)逐渐弯曲的曲面状,以冷却用基部(3)的一主表面(3a)的位置为基准的凹面(23)或凸面的中心的高度与以冷却用基部(3)的一主表面(3a)的位置为基准的凹面(23)或凸面的外周的高度之差的绝对值为1μm以上且30μm以下。
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公开(公告)号:CN111684574A
公开(公告)日:2020-09-18
申请号:CN201980011884.1
申请日:2019-02-19
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/3065 , H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 本发明的静电卡盘装置具备:载置台,设置有载置板状试样的载置面;圆环状的聚焦环;及冷却机构,冷却聚焦环,载置台具有围着载置面的周围设置的保持部,保持部上设置有包围载置面的周围的圆环状的槽部和向槽部的底面开口的贯穿孔,贯穿孔中插入有筒状的绝缘子,在保持部中,槽部的宽度方向两侧的上表面为与聚焦环接触并保持聚焦环的保持面,保持面满足下述条件(i)~(iii)。(i)表面粗糙度为0.05μm以下。(ii)平坦度为20μm以下。(iii)不具有沿与保持面交叉的方向延伸的深度1.0μm以上的凹部。
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公开(公告)号:CN111108589A
公开(公告)日:2020-05-05
申请号:CN201880060099.0
申请日:2018-09-26
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 本发明的静电卡盘装置具备:静电卡盘部,具有载置试样的试样载置面且具有静电吸附用第1电极;冷却基部,相对于静电卡盘部载置于与试样载置面相反的一侧且冷却静电卡盘部;及粘接层,将静电卡盘部和所述冷却基部粘接在一起,静电卡盘部在粘接层侧具有凹凸,第1电极的表面电阻值高于1.0Ω/□且低于1.0×1010Ω/□。
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公开(公告)号:CN116581081A
公开(公告)日:2023-08-11
申请号:CN202310776968.2
申请日:2018-09-26
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电卡盘装置具备:静电卡盘部,具有载置试样的试样载置面且具有静电吸附用第1电极;冷却基部,相对于静电卡盘部载置于与试样载置面相反的一侧且冷却静电卡盘部;及粘接层,将静电卡盘部和所述冷却基部粘接在一起,静电卡盘部在粘接层侧具有凹凸,第1电极的表面电阻值高于1.0Ω/□且低于1.0×1010Ω/□。
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公开(公告)号:CN112514046A
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:CN201980049649.3
申请日:2019-08-02
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 一种静电卡盘装置,具备设置有载置面的载置台、聚焦环及冷却机构,在载置台的保持部设置包围其周围的圆环状的槽部和向槽部的底面开口的贯穿孔,在保持部中,槽部的宽度方向两侧的上表面为与聚焦环接触并保持的保持面,保持面由槽部内周侧的内周面和比槽部更靠外周侧的外周面构成,保持面满足:条件(i),保持面为在厚度方向的截面中连接与保持面的最内周对应的第1点和与保持面的最外周对应的第2点的直线从所述第1点向所述第2点具有正的斜率或负的斜率的形状,且0≤|在保持面的厚度方向的截面中与最内周对应的第1点的高度‑与最外周对应的第2点的高度|≤10μm;条件(ii),内周面及外周面的泄漏面积小于0.7mm2。
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公开(公告)号:CN111480222B
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN201980006442.8
申请日:2019-07-19
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H02N13/00
Abstract: 静电卡盘装置(1)具备:静电卡盘部(2),具备具有载置板状试样W的载置面(11a)的基材(11)及将板状试样(W)静电吸附于载置面(11a)的静电吸附用内部电极(13);冷却用基部(3),冷却静电卡盘部(2);及粘接剂层(4),介于静电卡盘部(2)与冷却用基部(3)之间,基材(11)的载置面的形状呈凹面(23)或凸面,并且不包括拐点,该凹面(23)或凸面为从载置面(11a)的中心(11b)朝向载置面(11a)的外周(11c)逐渐弯曲的曲面状,以冷却用基部(3)的一主表面(3a)的位置为基准的凹面(23)或凸面的中心的高度与以冷却用基部(3)的一主表面(3a)的位置为基准的凹面(23)或凸面的外周的高度之差的绝对值为1μm以上且30μm以下。
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公开(公告)号:CN111108589B
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN201880060099.0
申请日:2018-09-26
Applicant: 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 本发明的静电卡盘装置具备:静电卡盘部,具有载置试样的试样载置面且具有静电吸附用第1电极;冷却基部,相对于静电卡盘部载置于与试样载置面相反的一侧且冷却静电卡盘部;及粘接层,将静电卡盘部和所述冷却基部粘接在一起,静电卡盘部在粘接层侧具有凹凸,第1电极的表面电阻值高于1.0Ω/□且低于1.0×1010Ω/□。
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