公开(公告)号：CN110031920A

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201811502065.0

申请日：2018-12-07

Applicant: 住友化学株式会社 ,  大成精细化工株式会社

Inventor： 安井未央 ,  片宝蓝 ,  西冈宏司 ,  黑田益功 ,  长谷川敦史

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/04 ,  C08G73/14

Abstract: 本发明的课题在于提供具有优异的表面硬度的光学层叠体。本发明的解决手段为一种光学层叠体，其具有基材、和被层叠在该基材的至少一个面上的第1硬涂层，该基材包含相对于基材的质量而言为0.02～1质量％的溶剂。

公开(公告)号：CN109975909B

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN201811502063.1

申请日：2018-12-07

Applicant: 住友化学株式会社 ,  大成精细化工株式会社

Inventor： 安井未央 ,  片宝蓝 ,  西冈宏司 ,  黑田益功 ,  长谷川敦史

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14 ,  G09F9/30

Abstract: 本发明的课题在于提供具有优异的耐弯曲性的光学层叠体。本发明的解决手段为一种光学层叠体，其具有基材、和被层叠在该基材的至少一个面上的第1硬涂层，在基材的一个面上具有第1硬涂层的层叠体的相对于拉伸断裂前的层叠体而言的拉伸断裂伸长率为5～25％。

公开(公告)号：CN109312019A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780035346.7

申请日：2017-06-08

Applicant: 住友化学株式会社 ,  大成精细化工株式会社

Inventor： 安井未央 ,  黑田益功 ,  长谷川敦史

IPC: C08F8/30 ,  B32B27/30 ,  C08F2/48 ,  C08F265/06 ,  C08F290/08

Abstract: 本发明涉及反应性聚合物、包含其的光固化性树脂组合物及具有其固化膜的层叠体。本发明的目的在于改善硬涂层与基材的密合性及硬涂层的耐光性。本发明的反应性聚合物在侧链具有烷氧基硅烷基及(甲基)丙烯酸酯基。

公开(公告)号：CN110031920B

公开(公告)日：2022-06-07

申请号：CN201811502065.0

申请日：2018-12-07

Applicant: 住友化学株式会社 ,  大成精细化工株式会社

Inventor： 安井未央 ,  片宝蓝 ,  西冈宏司 ,  黑田益功 ,  长谷川敦史

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/04 ,  C08G73/14

Abstract: 本发明的课题在于提供具有优异的表面硬度的光学层叠体。本发明的解决手段为一种光学层叠体，其具有基材、和被层叠在该基材的至少一个面上的第1硬涂层，该基材包含相对于基材的质量而言为0.02～1质量％的溶剂。

公开(公告)号：CN109975909A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201811502063.1

申请日：2018-12-07

Applicant: 住友化学株式会社 ,  大成精细化工株式会社

Inventor： 安井未央 ,  片宝蓝 ,  西冈宏司 ,  黑田益功 ,  长谷川敦史

IPC: G02B5/30 ,  G02B1/14 ,  G09F9/30

Abstract: 本发明的课题在于提供具有优异的耐弯曲性的光学层叠体。本发明的解决手段为一种光学层叠体，其具有基材、和被层叠在该基材的至少一个面上的第1硬涂层，在基材的一个面上具有第1硬涂层的层叠体的相对于拉伸断裂前的层叠体而言的拉伸断裂伸长率为5～25％。