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公开(公告)号：CN1384703A
公开(公告)日：2002-12-11
申请号：CN02118695.2
申请日：2002-03-08
Applicant: 住友化学工业株式会社 , 住友橡胶工业株式会社
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/0096 , C03C17/006 , C03C17/007 , C03C2217/40 , C03C2217/452 , C03C2217/475 , C03C2217/479 , C03C2217/485
Abstract: 一种电磁屏蔽板,具有玻璃衬底和形成于该衬底上的几何图案,其中,所述几何图案包括(a)一种从金属和金属氧化物组成的组中选出的无机填料,以及(b)一种软化点大约为200－700℃的玻璃成分。
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公开(公告)号：CN100388023C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200410085161.1
申请日：2004-09-08
Applicant: 住友化学工业株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , B29C55/00
Abstract: 本发明提供一种色斑少的偏振薄膜。一种偏振薄膜，通过包括如下操作的方法制得：依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，并进一步在拉伸处理后的各个工序中，分别将施加在上述薄膜上的张力基本保持固定。一种偏振薄膜的制造方法，该方法包括连续地、依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，在拉伸处理后的各个工序中，对上述薄膜进行张力控制。结果，可以使薄膜运行稳定，并减少色斑。
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公开(公告)号：CN100388024C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200410085163.0
申请日：2004-09-08
Applicant: 住友化学工业株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供可以显示更加中性的黑色的偏振薄膜的制备方法、偏振片的制备方法以及光学层压体的制备方法。偏振薄膜的制备方法包括，将碘吸附定向在聚乙烯醇类薄膜上后，在含硼酸的水溶液中进行多步浸渍处理，从而制得偏振薄膜，其特征在于：含硼酸的水溶液是(1)相对于100重量份的水，含有3—10重量份的硼酸以及1—20重量份的碘化物、温度为50—70℃的水溶液，以及(2)相对于100重量份的水，含有1—5重量份的硼酸以及3—30重量份的碘化物、温度为10—45℃的水溶液，经(1)的含硼酸水溶液处理后，再由(2)的含硼酸水溶液处理，与(1)的含硼酸水溶液相比(2)的含硼酸水溶液的碘化物浓度更高，并且硼酸的浓度更低，此外，温度也更低。
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公开(公告)号：CN1598624A
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN200410085162.6
申请日：2004-09-08
Applicant: 住友化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供白点少、没有皱摺的偏振膜及其制造方法、偏振器以及光学层合体。提供一种偏振膜，通过如下制得：对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，并在硼酸处理工序和/或此前的工序中进行单轴拉伸，进一步在拉伸处理后的至少一个工序中使膜的拉伸沿拉伸方向松弛1～5％。在该偏振膜的至少单面上层合保护膜，从而制得偏振器。在至少在单面上层合了保护膜的偏振器上层合选自相位差片、亮度增强片、视场角改良膜以及半透射反射片的至少一种，从而制得光学层合体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1595211A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN200410085161.1
申请日：2004-09-08
Applicant: 住友化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种色斑少的偏振薄膜。一种偏振薄膜，通过包括如下操作的方法制得：依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，并进一步在拉伸处理后的各个工序中，分别将施加在上述薄膜上的张力基本保持固定。一种偏振薄膜的制造方法，该方法包括连续地、依次对聚乙烯醇类薄膜进行膨胀处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，在硼酸处理工序和/或硼酸处理工序之前的工序中进行单轴拉伸，在拉伸处理后的各个工序中，对上述薄膜进行张力控制。结果，可以使薄膜运行稳定，并减少色斑。
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公开(公告)号：CN100397110C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200410085162.6
申请日：2004-09-08
Applicant: 住友化学工业株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供白点少、没有皱摺的偏振膜及其制造方法、偏振器以及光学层合体。提供一种偏振膜，通过如下制得：对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及水洗处理，并在硼酸处理工序和/或此前的工序中进行单轴拉伸，进一步在拉伸处理后的至少一个工序中使膜的拉伸沿拉伸方向松弛1～5%。在该偏振膜的至少单面上层合保护膜，从而制得偏振器。在至少在单面上层合了保护膜的偏振器上层合选自相位差片、亮度增强片、视场角改良膜以及半透射反射片的至少一种，从而制得光学层合体。
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公开(公告)号：CN100399071C
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200410011790.X
申请日：2004-09-29
Applicant: 住友化学工业株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明提供色差少的偏振膜的制造方法、偏振片的制造方法和光学层叠体的制造方法。该偏振膜的制造方法是将聚乙烯醇系薄膜按照溶胀处理、染色处理、硼酸处理的顺序在浴中进行连续处理，且在这些处理步骤中的至少一个步骤中进行单轴拉伸，得到偏振膜，其中在溶胀处理后染色处理前设置至少一个步骤的湿式拉伸步骤，在该拉伸步骤中，在相对于100重量份水含有0.01-2.0重量份硼酸的水溶液中，将上述薄膜以1.1倍或以上但小于3倍的拉伸倍率进行单轴拉伸。
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公开(公告)号：CN1641381A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN200410011790.X
申请日：2004-09-29
Applicant: 住友化学工业株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明提供色差少的偏振膜的制造方法、偏振片的制造方法和光学层叠体的制造方法。该偏振膜的制造方法是将聚乙烯醇系薄膜按照溶胀处理、染色处理、硼酸处理的顺序在浴中进行连续处理，且在这些处理步骤中的至少一个步骤中进行单轴拉伸，得到偏振膜，其中在溶胀处理后染色处理前设置至少一个步骤的湿式拉伸步骤，在该拉伸步骤中，在相对于100重量份水含有0.01－2.0重量份硼酸的水溶液中，将上述薄膜以1.1倍或以上但小于3倍的拉伸倍率进行单轴拉伸。
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公开(公告)号：CN1616996A
公开(公告)日：2005-05-18
申请号：CN200410085163.0
申请日：2004-09-08
Applicant: 住友化学工业株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供可以显示更加中性的黑色的偏振薄膜的制备方法、偏振片的制备方法以及光学层压体的制备方法。偏振薄膜的制备方法包括，将碘吸附定向在聚乙烯醇类薄膜上后，在含硼酸的水溶液中进行多步浸渍处理，从而制得偏振薄膜，其特征在于：含硼酸的水溶液是(1)相对于100重量份的水，含有3－10重量份的硼酸以及1－20重量份的碘化物、温度为50－70℃的水溶液，以及(2)相对于100重量份的水，含有1－5重量份的硼酸以及3－30重量份的碘化物、温度为10－45℃的水溶液，经(1)的含硼酸水溶液处理后，再由(2)的含硼酸水溶液处理，与(1)的含硼酸水溶液相比(2)的含硼酸水溶液的碘化物浓度更高，并且硼酸的浓度更低，此外，温度也更低。
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