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公开(公告)号：CN1641381A
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN200410011790.X
申请日：2004-09-29
Applicant: 住友化学工业株式会社
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明提供色差少的偏振膜的制造方法、偏振片的制造方法和光学层叠体的制造方法。该偏振膜的制造方法是将聚乙烯醇系薄膜按照溶胀处理、染色处理、硼酸处理的顺序在浴中进行连续处理，且在这些处理步骤中的至少一个步骤中进行单轴拉伸，得到偏振膜，其中在溶胀处理后染色处理前设置至少一个步骤的湿式拉伸步骤，在该拉伸步骤中，在相对于100重量份水含有0.01－2.0重量份硼酸的水溶液中，将上述薄膜以1.1倍或以上但小于3倍的拉伸倍率进行单轴拉伸。
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