弹性表面波装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101682310A

    公开(公告)日:2010-03-24

    申请号:CN200880019791.5

    申请日:2008-05-30

    Abstract: 本发明提供一种没有特性恶化、能够由晶片工序一并形成的小型且高度低的弹性表面波装置及其制造方法。其中,所述弹性表面波装置具备:压电基板(1);IDT(2),其形成在所述压电基板(1)的一个主面上,且至少具备一个梳齿状电极;保护罩(6),其在所述一个主面上覆盖所述IDT(2),从而与所述一个主面一起形成中空的收容空间(7),所述保护罩(6)具有贯通孔(15),且至少一部分由含有包含氟的酸产生材料的光固化性材料构成。

    弹性表面波装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101682310B

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN200880019791.5

    申请日:2008-05-30

    Abstract: 本发明提供一种没有特性恶化、能够由晶片工序一并形成的小型且高度低的弹性表面波装置及其制造方法。其中,所述弹性表面波装置具备:压电基板(1);IDT(2),其形成在所述压电基板(1)的一个主面上,且至少具备一个梳齿状电极;保护罩(6),其在所述一个主面上覆盖所述IDT(2),从而与所述一个主面一起形成中空的收容空间(7),所述保护罩(6)具有贯通孔(15),且至少一部分由含有包含氟的酸产生材料的光固化性材料构成。

Patent Agency Ranking