基体以及半导体装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112352309A

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201980041802.8

    申请日:2019-06-27

    Abstract: 本发明的实施方式涉及的基体具备基板、第1膜、第1层、以及第2膜。基板具有第1弹性模量。第1膜位于基板的上表面。第1层位于基板的下表面,具有比第1弹性模量低的第2弹性模量,并且具有第1热膨胀系数。第2膜位于第1层的下表面,包含与第1膜相同的材料,具有比第1热膨胀系数小的第2热膨胀系数。

    基体以及半导体装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112352309B

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN201980041802.8

    申请日:2019-06-27

    Abstract: 本发明的实施方式涉及的基体具备基板、第1膜、第1层、以及第2膜。基板具有第1弹性模量。第1膜位于基板的上表面。第1层位于基板的下表面,具有比第1弹性模量低的第2弹性模量,并且具有第1热膨胀系数。第2膜位于第1层的下表面,包含与第1膜相同的材料,具有比第1热膨胀系数小的第2热膨胀系数。

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