一种低共熔溶剂及其制备方法和在制备甲壳素中的应用

    公开(公告)号:CN114790252A

    公开(公告)日:2022-07-26

    申请号:CN202110097542.5

    申请日:2021-01-25

    Abstract: 本发明涉及一种低共熔溶剂及其制备方法和在制备甲壳素中的应用,所述低共熔溶剂由氢键供体和氢键受体反应得到;所述氢键供体包括氨基葡萄糖、氨基葡萄糖酸、5‑羟甲基糠醛、乙酰丙酸、甲酸或乙酸中的任意一种或至少两种的组合;所述氢键受体包括季铵盐化合物和/或两性离子化合物。本发明所涉及的低共熔溶剂具有低粘度、环境友好、可生物降解、可循环利用等优点,同时兼具脱钙、脱蛋白及酰化三种功能,可用于处理虾蟹壳制备甲壳素、蛋白和有机酸钙等高值化产品。其优势在于低共熔溶剂合成工艺简单,成本较低易操作,一步法工艺无需额外添加酸、碱,环境友好且实用性强,具有良好的工业应用潜质。

    一种离子液体电镀光亮铝后的去应力退火工艺

    公开(公告)号:CN104988547B

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201510393963.7

    申请日:2015-07-07

    Abstract: 针对离子液体中电镀光亮铝镀层中存在残余应力,本发明提供了一种降低该镀层应力的退火工艺。在真空或惰性气体中,按照一定控温程序进行退火,可以有效地降低光亮铝镀层的残余应力,提高其机械性能,从而避免光亮铝镀层在使用过程中或后续加工过程中的脆性损伤,同时可以保持光亮铝镀层的光亮度。具体实施步骤:光亮铝镀层在真空条件或惰性气体保护下,经1~3小时缓慢升温到退火温度,退温火度为200℃~350℃,达到退火温度后恒温2~4小时,恒温结束后缓慢降温2~8小时至室温。经过本发明处理后的光亮铝镀层的残余应力明显降低,有效的降低了光亮铝镀层产品的后加工的脆性损伤率。

    用于电化学石英晶体微天平与拉曼光谱联用的原位电解池

    公开(公告)号:CN107576646A

    公开(公告)日:2018-01-12

    申请号:CN201710725283.X

    申请日:2017-08-22

    Abstract: 一种用于电化学石英晶体微天平与拉曼光谱联用的原位电解池。该原位电解池包括石英溶液池(1),装载于石英溶液池水平段(101)内部的第一活塞(A)和竖直段(102)内部的第二活塞(B);所述第一活塞(A)包含具有中空腔体的第一活塞杆(2),装载于第一活塞杆(2)内部的石英晶体微天平启振器(11)、电极固定块(3)和第一垫片(4);所述电极固定块(3)和第一垫片(4)安装有三电极体系;所述第一活塞杆(2)封闭端面中心有通光孔(O),使工作电极(WE)可以接受拉曼光谱水平打光。本发明克服了常规原位电解池因溶液重力造成的电解池漏液,石英晶体微天平测量质量不准,以及不适用于对水和氧气敏感体系的测试等缺点。

    一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法

    公开(公告)号:CN103849911B

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201210523573.3

    申请日:2012-12-07

    Abstract: 本发明提供了一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法。它涉及绿色、清洁电镀领域。该电镀液由无水卤化铝(A)、N,N′-二烷基咪唑卤化物(B)和添加剂(C)-吡啶衍生物混合而成。无水卤化铝(A)与N,N′-二烷基咪唑卤化物(B)的表观摩尔比为1:1~3:1,添加剂(C)的加入量为0.5~15g/L。操作条件为:惰性气体保护下,阴极电流密度为0.5~5A/dm2,镀液温度为25~100℃,施镀时间为10~120min,搅拌速度为0~500r/min。该方法克服了有机溶剂体系电化学窗口窄、电导率低、挥发性强、易燃烧和无机熔盐体系操作温度高,能耗大,设备腐蚀和环境污染严重等弊病,所得镀层发射率较低,纯度较高,厚度易于控制,并且通过定时定量补加添加剂镀液可重复使用。

    一种离子液体电解液及用该电解液制备光亮铝镀层的方法

    公开(公告)号:CN104294327A

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201410558140.0

    申请日:2014-10-20

    CPC classification number: C25D3/44

    Abstract: 一种离子液体电解液及用该电解液制备光亮铝镀层的方法,主要解决现有制备光亮铝镀层离子液体粘度和电导率不适宜等问题。该电解液由离子液体,无水卤化铝盐及助剂组成,所述离子液体与无水卤化铝盐的摩尔比为1∶1.5-2.0,离子液体与助剂的摩尔比为1∶0.1-4。用该电解液制备光亮铝镀层的方法如下:首先将电解装置置于常压无水无氧的氮气或氩气环境气氛中,加入所述离子液体电解液,在电解温度10-30℃,电流密度1-10A/dm2,调整槽压的条件下进行电解,获得镜面光泽的铝镀层。本发明制备光亮铝镀层中所用的离子液体电解液加入助剂后,电解槽压降低,改善了离子液体粘度和电导率,从而获得电沉积光亮铝镀层。

    无氰仿金电镀Cu-Zn二元合金的方法

    公开(公告)号:CN103866356A

    公开(公告)日:2014-06-18

    申请号:CN201210533734.7

    申请日:2012-12-11

    Abstract: 为了改善现有仿金电镀工艺中含氰镀液有剧毒,阳极溶解性能差,三废处理成本高;无氰镀液组成复杂,工艺参数范围窄,仿金色泽不够逼真等问题,本发明提供了一种在低碳钢上无氰仿金电镀Cu-Zn二元合金电镀液及其使用方法。其特征在于:基体活化处理后不用清洗直接进行电镀,操作简单;由焦磷酸钾、硫酸铜、硫酸锌、丙三醇组成的仿金镀液,绿色、环保、分散性好、均镀能力强、组成简单、便于维护;制备的仿金镀层满足国家标准GB9286-1998色漆和清漆漆膜的划格试验要求;经钝化、封闭保护后满足国家标准GB5938-86《轻工产品金属镀层和化学处理层的耐蚀试验方法》的5%食盐水中性盐雾试验指标,可用作装饰性镀层。

    一种从含氨的水溶液制备碳酸铵溶液的方法

    公开(公告)号:CN103318921A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310268149.3

    申请日:2013-06-28

    Abstract: 本发明特别涉及一种从含低浓度氨的水溶液制备高浓度碳酸铵溶液的方法。本发明,包括以下步骤:1)调节作为原料的含氨的水溶液的pH值至11.00~13.50,从含氨的水溶液中将氨吹出得到氨气;2)用pH值为9.50~10.00的碳酸铵溶液作为吸收液,将作为原料气的CO2气和步骤1)制得的氨气交替通入吸收液中;或者,将吸收液交替送入碳化装置和氨吸收装置,同时往碳化装置内通入作为原料气的CO2气,往氨吸收装置内通入步骤1)制得的氨气;经上述步骤所得吸收液产物即为制得的碳酸铵溶液。本发明通过控制工艺条件可以提高碳酸铵生产过程中氨和CO2的吸收率,且工艺简单,投资费用低,无需经过精馏或汽提工艺,能耗较低,且对作为原料气的CO2气的CO2含量要求相对较低。

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