一种高光谱成像仪光谱校准的光学校正方法

    公开(公告)号:CN119354334B

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411918112.5

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本发明属于光学校准技术领域,本发明提供了一种高光谱成像仪光谱校准的光学校正方法,包括:基于比对偏差程度值ZXj生成测量异常信号,获取异常信号出现次数占比BJ,生成波长偏移疑似信号,根据偏移判定值CV将测量光谱曲线标记为异常测量光谱曲线,获取异常测量光谱曲线数量占比值JK,并确定波长是否发生偏移,基于对数据点的传输数据进行分析,得到数据点传输波动参数FG,判断高光谱成像仪对标准光源进行测量的过程中的数据点传输稳定性,获取时段重合程度值AS,将时段重合程度值AS与时段重合程度阈值进行比较,根据比较结果确定波长偏移的原因是否为数据点传输稳定性差,本发明提高了高光谱成像仪光谱校准效率。

    一种高光谱成像仪光谱校准的光学校正方法

    公开(公告)号:CN119354334A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411918112.5

    申请日:2024-12-25

    Abstract: 本发明属于光学校准技术领域,本发明提供了一种高光谱成像仪光谱校准的光学校正方法,包括:基于比对偏差程度值ZXj生成测量异常信号,获取异常信号出现次数占比BJ,生成波长偏移疑似信号,根据偏移判定值CV将测量光谱曲线标记为异常测量光谱曲线,获取异常测量光谱曲线数量占比值JK,并确定波长是否发生偏移,基于对数据点的传输数据进行分析,得到数据点传输波动参数FG,判断高光谱成像仪对标准光源进行测量的过程中的数据点传输稳定性,获取时段重合程度值AS,将时段重合程度值AS与时段重合程度阈值进行比较,根据比较结果确定波长偏移的原因是否为数据点传输稳定性差,本发明提高了高光谱成像仪光谱校准效率。

    工业产品可计量性设计方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN119067357A

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202411047506.8

    申请日:2024-08-01

    Abstract: 本发明涉及工业产品设计技术领域,提供一种工业产品可计量性设计方法、装置、电子设备及存储介质,其中方法包括:对合规要求文本进行文本分析,确定工业产品的多个定量需求;确定各定量需求的重要性、各定量需求的发生概率以及各定量需求的计量成本,对多个定量需求进行筛选,基于筛选得到的计量需求信息,对工业产品进行可计量性设计。本发明提供的工业产品可计量性设计方法、装置、电子设备及存储介质,通过从需求分析出发,完整的给出了工业产品计量需求分析方法,得到完整有效的计量需求,针对分析得到的需求给出了一套全流程的设计方法,填补了工业产品可计量性设计方法的空白,提升了后续对工业产品的计量检测的准确性和覆盖率。

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