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公开(公告)号：CN104833429A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510141022.4
申请日：2015-03-27
Applicant: 中国计量科学研究院
IPC: G01J5/00
Abstract: 本发明公开了一种基于控制背景辐射的黑体发射率测量装置及方法，所述测量装置包括：一待测黑体；一热辐射环，所述热辐射环位于所述待测黑体的开口一侧；一红外辐射温度计，所述红外辐射温度计测量采集到的辐射信号，在所述热辐射环与所述红外辐射温度计之间设置有水冷光阑，所述水冷光阑用于降低杂散辐射。本发明通过基于控制背景辐射的黑体发射率测量装置，分析了热辐射环温度和黑体温度变化对测量结果的影响，验证了该方法应用于星载定标黑体发射率在轨校准的可行性。
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