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公开(公告)号:CN116435797A
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN202310501614.7
申请日:2023-05-06
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公开了一种角度稳定小型化双层电阻膜的超材料吸波体结构,所述角度稳定小型化双层电阻膜的超材料吸波体结构是由单元结构向x和y方向周期性延拓形成的阵列。所述单元结构包括两层不同方块电阻的电阻膜、两层介质基板和一层金属基底,单元结构尺寸小于0.08λ。该结构对TE极化和TM极化都具有优越的吸收效果,该结构利用单元结构之间、多层结构之间的耦合,实现结构的小型化和优越的吸收率。该吸波体在入射电磁波角度低于50°的情况下都有良好的稳定性。作为复合吸波材料,该结构具有厚度较小、易于加工、功能性强等特点,可以满足在芯片封装场景或印刷电路板中电磁辐射抑制的应用需求。