溶液吸光率谱测量装置及方法

    公开(公告)号:CN118914082B

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202411403463.2

    申请日:2024-10-09

    Abstract: 本发明属于光谱学技术领域,尤其涉及一种溶液吸光率谱测量装置及方法。装置包括连续谱白光光源、比色皿支架、可变光程组装比色皿、光纤光谱仪和上位机,可变光程组装比色皿内置有待测溶液,可变光程组装比色皿设置在比色皿支架内,连续谱白光光源发出的白光透过待测溶液后入射至光纤光谱仪内,光纤光谱仪与上位机相连,光纤光谱仪在上位机的控制下采集白光的光谱,上位机根据光谱计算待测溶液的吸光率谱。本发明适用于微量、溶剂化效应强和高透明溶液,装置的成本低,且能够实现一次性吸光率谱测量。

    一种石墨烯酞菁复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN110554546B

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN201910918180.4

    申请日:2019-09-26

    Abstract: 本发明提供一种石墨烯酞菁复合材料及其制备方法,方法包括:将具有规则排布孔结构的改性石墨烯材料和改性酞菁材料复合,得到石墨烯酞菁复合材料。上述方法制得的复合材料中改性酞菁材料也有序排布,如规则矩阵方式或六角网格结构排布,进而使得复合材料的光限幅性能优异。复合材料在入射能量为1.5J/cm2时发生较明显光限幅现象,输出幅值为0.8J/cm2,非线性衰减倍率约7倍;或在入射能量为3.4J/cm2时发生较明显光限幅现象,输出幅值为1.4J/cm2,非线性衰减倍率约4倍;或入射能量为2J/cm2时发生较明显光限幅现象,输出幅值为1.1J/cm2,非线性衰减倍率约5倍。

    一种指纹显现方法及指纹显现系统

    公开(公告)号:CN107704815B

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201710888373.0

    申请日:2017-09-27

    Abstract: 本申请公开了一种指纹显现方法及指纹显现系统,其中,所述指纹显现方法利用获取的黑体辐射发光材料覆盖待成像载体上的待显示指纹,以使得待显示指纹表面的黑体辐射发光材料可以在预设功率的红外激光照射时发出黑体辐射,从而使得被照射部分的待显示指纹显现出来,并且在对待显示指纹进行照射的过程中采用扫描照射的方法,避免了对待成像载体上背景图案的长时间成像,降低背景图案对指纹显现的影响,降低了背景荧光对获取指纹图像的不良影响,从而使得待显示指纹可以清晰的显现处理,进而为获得清晰的高对比度的指纹图像提供了可能。

    一种指纹显现方法及指纹显现系统

    公开(公告)号:CN107704815A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201710888373.0

    申请日:2017-09-27

    Abstract: 本申请公开了一种指纹显现方法及指纹显现系统,其中,所述指纹显现方法利用获取的黑体辐射发光材料覆盖待成像载体上的待显示指纹,以使得待显示指纹表面的黑体辐射发光材料可以在预设功率的红外激光照射时发出黑体辐射,从而使得被照射部分的待显示指纹显现出来,并且在对待显示指纹进行照射的过程中采用扫描照射的方法,避免了对待成像载体上背景图案的长时间成像,降低背景图案对指纹显现的影响,降低了背景荧光对获取指纹图像的不良影响,从而使得待显示指纹可以清晰的显现处理,进而为获得清晰的高对比度的指纹图像提供了可能。

    一种同轴透射式损伤阈值自动测量系统

    公开(公告)号:CN117249972A

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202310921835.X

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 本发明涉及光学测量仪器设备技术领域,特别涉及一种同轴透射式损伤阈值自动测量系统,解决现有技术中的测量时避免对强光直接测量并减少样品杂质和不均匀带来的图像处理误差,即样品杂质影响图像处理以及损伤形貌不明显导致的漏检的技术问题,具体地配置采用计算机和时序脉冲发生器自动控制CMOS相机、转轮、能量计、激光器、二位平移台并采集数据,并进行损伤阈值计算。本发明的优势在于利用透射探测光斑的强度分布分析,不仅对透射率敏感,同时能够探测激光损伤导致的不可逆相位变化;采用同轴透射光路和弱‑强‑弱模式测量方案,配合相应的计算机控制及数据采集,能够避免对强光直接测量并减少样品杂质和不均匀带来的图像处理误差。

    一种物质的光能量吸收率测量方法、装置、系统

    公开(公告)号:CN112557321B

    公开(公告)日:2022-10-14

    申请号:CN202011375027.0

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种物质的光能量吸收率测量方法,包括预先搭建可输出两束相同光束且输出光束能量大小可调的测量光路结构,两束相同光束分别为测试光束和参照光束;控制待测样品在测试光束的输出光路上移动,并分别采集相关能量数据;再保持待测样品位置不变;调节测试光束和参照光束输出的光能量由小到大逐渐变化,并分别采集第二组能量数据;根据两组能量数据,确定待测样品随入射光能流密度变化的光能量吸收率。本申请中采用两种不同的方式分别采集两组能量数据,扩大待测样品表面能流密度变化范围区间,提高基于采集的能量数据确定的光能量吸收率的可用性。本申请还提供了一种物质的光能量吸收率测量装置和系统,具有上述有益效果。

    一种物质的光能量吸收率测量方法、装置、系统

    公开(公告)号:CN112557321A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011375027.0

    申请日:2020-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种物质的光能量吸收率测量方法,包括预先搭建可输出两束相同光束且输出光束能量大小可调的测量光路结构,两束相同光束分别为测试光束和参照光束;控制待测样品在测试光束的输出光路上移动,并分别采集相关能量数据;再保持待测样品位置不变;调节测试光束和参照光束输出的光能量由小到大逐渐变化,并分别采集第二组能量数据;根据两组能量数据,确定待测样品随入射光能流密度变化的光能量吸收率。本申请中采用两种不同的方式分别采集两组能量数据,扩大待测样品表面能流密度变化范围区间,提高基于采集的能量数据确定的光能量吸收率的可用性。本申请还提供了一种物质的光能量吸收率测量装置和系统,具有上述有益效果。

    非链式DF/HF激光器放电生成物小型化干法处理装置

    公开(公告)号:CN104474855B

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201410572503.6

    申请日:2014-10-22

    Abstract: 非链式DF/HF激光器放电生成物小型化干法处理装置,属于激光器放电生成物处理技术领域。解决了现有激光器尾气处理装置结构大、吸附剂装卸复杂且相互影响、不便存储运输、污染环境的问题。该装置包括金属壳及一个以上的密封的净化单元,每个净化单元包括进气管、排气管及由从下至上依次排列的第一过渡仓室、第一仓室、第二仓室、第三仓室和第二过渡仓室组成的吸附剂仓室;金属壳上设有分别与第一仓室、第二仓室、第三仓室贯通的填料口,通过填料口分别装填和卸载第一仓室、第二仓室、第三仓室中的吸附剂;填料口上设有用于密封填料口的密封盖。该装置具有生成物处理彻底,设备体积小、重量轻,易于操作,方便维护,没有二次污染废水等优点。

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