一种提高涂层/合金基体界面稳定性的Ni-Al/MCrAlY涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116219373A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202211721544.8

    申请日:2022-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种提高涂层/合金基体界面稳定性的Ni‑Al/MCrAlY涂层及其制备方法,属于高温防护涂层技术领域。具体而言,就是在高温合金基体上先沉积Ni‑Al涂层,再沉积MCrAlY涂层,最后经真空退火使涂层成分扩散均匀。与单一的MCrAlY涂层相比,引入Ni‑Al涂层能有效提高涂层与Ni基高温合金(尤其对于单晶高温合金)界面的稳定性,进而减轻涂层对合金基体力学性能的恶化、延长合金基体的服役寿命。本发明所涉及的提高涂层与Ni基高温合金界面稳定性的涂层制备方法,工艺简单且重复性好,易于实现工业化推广。

    一种NiCoCrAlYHfZr涂层及其制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116180012A

    公开(公告)日:2023-05-30

    申请号:CN202211720657.6

    申请日:2022-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种NiCoCrAlYHfZr涂层及其制备方法,属于高温防护涂层技术领域。采用电弧离子镀技术在高温合金基底上沉积NiCoCrAlYHfZr涂层,再经真空退火使涂层成分扩散均匀。与传统的MCrAlY(M=Ni/Co)涂层相比,添加HfZr能有效延缓氧化膜的剥落,提高涂层的抗高温氧化性能,从而有效地延长涂层的使用寿命。本发明所涉及的NiCoCrAlYHfZr涂层,制备工艺简单、重复性好,易于实现工业化推广。

    一种W-Si-B硬质涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115181948A

    公开(公告)日:2022-10-14

    申请号:CN202210798530.X

    申请日:2022-07-06

    Abstract: 本发明公开了一种W‑Si‑B硬质涂层及其制备方法,属于硬质耐磨涂层技术领域。采用直流磁控溅射的工艺,在通过调控Si靶电流、基底偏压和沉积温度等参数,在YG8硬质合金上制备了W‑Si‑B硬质涂层。该涂层有较高的硬度与韧性,较好的耐磨性能。本发明所涉及的涂层,可显著提高工件或刀具表面的硬度及耐磨性,对于硼化物硬质涂层的理论研究和实际应用具有重要意义。

    一种Al改性WB2涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115161606B

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202210700241.1

    申请日:2022-06-20

    Abstract: 本发明涉及硬质耐磨涂层领域,具体涉及一种Al改性WB2涂层及其制备方法。采用直流磁控溅射的工艺,在通过调控Al靶电流、基底偏压和沉积温度等参数,在YG8硬质合金上制备了Al改性WB2涂层。Al改性WB2涂层为Al元素掺杂的AlB2型WB2涂层,涂层厚度为1~4μm,Al掺杂量为0~23.5at.%且大于0,涂层硬度在30GPa以上,涂层的平均摩擦系数为0.45~0.5,磨损率为2.2×10‑7mm3/Nm。该涂层有较高的硬度,较好的减磨、耐磨性能。本发明所涉及的涂层,可显著提高工件或刀具表面的硬度及耐磨性,对于硼化物硬质涂层的理论研究和实际应用具有重要意义。

    一种Al改性WB2涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN115161606A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202210700241.1

    申请日:2022-06-20

    Abstract: 本发明涉及硬质耐磨涂层领域,具体涉及一种Al改性WB2涂层及其制备方法。采用直流磁控溅射的工艺,在通过调控Al靶电流、基底偏压和沉积温度等参数,在YG8硬质合金上制备了Al改性WB2涂层。Al改性WB2涂层为Al元素掺杂的AlB2型WB2涂层,涂层厚度为1~4μm,Al掺杂量为0~23.5at.%且大于0,涂层硬度在30GPa以上,涂层的平均摩擦系数为0.45~0.5,磨损率为2.2×10‑7mm3/Nm。该涂层有较高的硬度,较好的减磨、耐磨性能。本发明所涉及的涂层,可显著提高工件或刀具表面的硬度及耐磨性,对于硼化物硬质涂层的理论研究和实际应用具有重要意义。

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