红外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN112701171B

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN201911012637.1

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 本发明公开了红外探测器及其制作方法,所述红外探测器包括衬底、P型超晶格接触层、P型超晶格吸收层、空穴势垒层、N型超晶格接触层、第一电极以及第二电极,所述P型超晶格接触层、P型超晶格吸收层、空穴势垒层以及N型超晶格接触层从下而上叠层设置在衬底上,所述第一电极设置在P型超晶格接触层上,所述第二电极设置在N型超晶格接触层上。其中,所述空穴势垒层为InAs/InPSb超晶格。由此,本发明凭借InAs/InPSb超晶格势垒层完美实现了以无Al结构对空穴的阻挡,有效抑制暗电流的同时,降低了材料生长和加工的难度、提升了器件的稳定性和可靠性。而且,InAs/InPSb超晶格可作为短波、中波和长波红外探测器的空穴势垒层,适用于各类波长的红外探测器,泛用性较强。

    红外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN112701171A

    公开(公告)日:2021-04-23

    申请号:CN201911012637.1

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 本发明公开了红外探测器及其制作方法,所述红外探测器包括衬底、P型超晶格接触层、P型超晶格吸收层、空穴势垒层、N型超晶格接触层、第一电极以及第二电极,所述P型超晶格接触层、P型超晶格吸收层、空穴势垒层以及N型超晶格接触层从下而上叠层设置在衬底上,所述第一电极设置在P型超晶格接触层上,所述第二电极设置在N型超晶格接触层上。其中,所述空穴势垒层为InAs/InPSb超晶格。由此,本发明凭借InAs/InPSb超晶格势垒层完美实现了以无Al结构对空穴的阻挡,有效抑制暗电流的同时,降低了材料生长和加工的难度、提升了器件的稳定性和可靠性。而且,InAs/InPSb超晶格可作为短波、中波和长波红外探测器的空穴势垒层,适用于各类波长的红外探测器,泛用性较强。

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