快速鉴别辐射后碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容超出预值的方法

    公开(公告)号:CN113917304B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202111180529.2

    申请日:2021-10-11

    Abstract: 本发明涉及一种快速鉴别辐射后碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容超出预值的方法,该方法涉及装置是由静电试验平台、样品测试版、电容‑电压单元模块、源测量单元模块和计算机组成,利用计算机中的扫描软件,设定的频率和电压扫描,得到碳化硅垂直双扩散型晶体管准确的结构电容数据,将结构电容数据经过优化拟合为结构电容曲线,将所得结构电容曲线自动去除尖峰,得到更为平滑的曲线,再对结构电容曲线通过固定的算法运算拟合成为晶体管寄生电容曲线,对辐照前后测试得到的碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容曲线进行比对,自动生成米勒平台区域产生的差值,再设定合理的预值范围,超出预值则会根据实验积累的数据快速判断是否会对器件的开关性能产生严重影响。本发明操作方便快捷,具有一定的通用性。

    快速鉴别辐射后碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容超出预值的方法

    公开(公告)号:CN113917304A

    公开(公告)日:2022-01-11

    申请号:CN202111180529.2

    申请日:2021-10-11

    Abstract: 本发明涉及一种快速鉴别辐射后碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容超出预值的方法,该方法涉及装置是由静电试验平台、样品测试版、电容‑电压单元模块、源测量单元模块和计算机组成,利用计算机中的扫描软件,设定的频率和电压扫描,得到碳化硅垂直双扩散型晶体管准确的结构电容数据,将结构电容数据经过优化拟合为结构电容曲线,将所得结构电容曲线自动去除尖峰,得到更为平滑的曲线,再对结构电容曲线通过固定的算法运算拟合成为晶体管寄生电容曲线,对辐照前后测试得到的碳化硅垂直双扩散型晶体管寄生电容曲线进行比对,自动生成米勒平台区域产生的差值,再设定合理的预值范围,超出预值则会根据实验积累的数据快速判断是否会对器件的开关性能产生严重影响。本发明操作方便快捷,具有一定的通用性。

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