化合物硼酸锂钠双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN106917140B

    公开(公告)日:2019-10-15

    申请号:CN201710185601.8

    申请日:2017-03-26

    Abstract: 本发明涉及化合物硼酸锂钠双折射晶体及制备方法和用途,该晶体化学式为Li2Na2B2O5,分子量为161.4,属于正交晶系,空间群是Cmcm,晶胞参数a=3.313Å,b=9.985Å,c=13.400Å,V=443.3Å3,Z=4。其透光范围为170‑3500 nm,双折射率为0.108(1064 nm)‑0.248(200 nm)之间。该化合物硼酸锂钠采用固相反应法合成;Li2Na2B2O5双折射晶体采用高温熔体法或助溶剂法生长晶体,通过本发明所述方法获得的硼酸锂钠双折射晶体机械硬度适中,易于切割、抛光加工和保存,并且同成分熔融,易于生长,具有较大的双折射率,在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作偏振分束棱镜,相位延迟器件和电光调制器件等。

    化合物偏硼酸钠双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN106149055A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201510163589.1

    申请日:2015-04-08

    Abstract: 本发明涉及化合物偏硼酸钠双折射晶体及制备方法和用途,特别是一种用于深紫外-红外波段的分子式为NaBO2的偏硼酸钠双折射晶体。该晶体的化学式为NaBO2,分子量为65.8,属于三方晶系,空间群是R c,晶胞参数a = 11.8617 Å, b=11.8617 Å, c = 6.3957 Å,V = 590.93 Å3 ,Z=4;其透光范围为180-3500 nm,双折射率为0.09(3500 nm)-0.23(180 nm)之间。采用高温熔体法或高温熔液法生长晶体,该晶体硬度适中,易于加工,并且同成分熔融,易于生长,具有较大的双折射率;在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作光隔离器、环形器、光束位移器、光学起偏器或光学调制器中的用途。

    化合物偏硼酸钠双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN106149055B

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201510163589.1

    申请日:2015-04-08

    Abstract: 本发明涉及化合物偏硼酸钠双折射晶体及制备方法和用途,特别是一种用于深紫外‑红外波段的分子式为NaBO2的偏硼酸钠双折射晶体。该晶体的化学式为NaBO2,分子量为65.8,属于三方晶系,空间群是Rc,晶胞参数a=11.8617 Å,b=11.8617 Å,c=6.3957 Å,V=590.93 Å3,Z=4;其透光范围为180‑3500 nm,双折射率为0.09(3500 nm)‑0.23(180 nm)之间。采用高温熔体法或高温熔液法生长晶体,该晶体硬度适中,易于加工,并且同成分熔融,易于生长,具有较大的双折射率;在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作光隔离器、环形器、光束位移器、光学起偏器或光学调制器中的用途。

    化合物硼酸锂钠双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN106917140A

    公开(公告)日:2017-07-04

    申请号:CN201710185601.8

    申请日:2017-03-26

    Abstract: 本发明涉及化合物硼酸锂钠双折射晶体及制备方法和用途,该晶体化学式为Li2Na2B2O5,分子量为161.4,属于正交晶系,空间群是Cmcm,晶胞参数a=3.313 Å,b=9.985 Å,c=13.400 Å,V=443.3 Å3,Z=4。其透光范围为170‑3500 nm,双折射率为0.108(1064 nm)‑0.248(200 nm)之间。该化合物硼酸锂钠采用固相反应法合成;Li2Na2B2O5双折射晶体采用高温熔体法或助溶剂法生长晶体,通过本发明所述方法获得的硼酸锂钠双折射晶体机械硬度适中,易于切割、抛光加工和保存,并且同成分熔融,易于生长,具有较大的双折射率,在光学和通讯领域有重要应用,可用于制作偏振分束棱镜,相位延迟器件和电光调制器件等。

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