反射面天线远场方向图的重构方法和系统

    公开(公告)号:CN109613346A

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201811605789.8

    申请日:2018-12-28

    CPC classification number: G01R29/10 G06F17/17

    Abstract: 本发明提供了反射面天线远场方向图的重构方法和系统,包括:基于各阶标准泽尼克多项式组合描述典型波前误差;典型波前误差通过泰勒级数近似展开的远场方向图得到反射面天线的一阶影响方向图和二阶影响方向图;计算不含典型波前误差的理想远场方向图,根据理想远场方向图、一阶影响方向图和二阶影响方向图得到基本方向图数据;获取波前误差数据,并对典型波前误差进行泽尼克多项式拟合,得到系数向量;通过系数向量与基本方向图数据进行加权组合,得到反射面天线的远场方向图,该发明可以减少计算时间,快速的重构反射面天线的远场方向图。

    一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法

    公开(公告)号:CN106025550B

    公开(公告)日:2018-11-27

    申请号:CN201610365843.0

    申请日:2016-05-27

    Abstract: 本发明涉及一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法,该方法从天线电性能角度出发,确定了副反射面位置调整参数与远场电性能的关系式,并以副面调整后天线远场电性能最优为目标,建立了以副面调整参数为变量的优化模型,采用合适的优化算法,在可行域内获得了副面位置的最佳调整参数。依据该最佳调整参数驱动副面运动,实现副面位置偏差补偿。本发明主要用于解决现有双反射面天线因结构变形无法快速测量,进而难以快速确定副面最佳位置的问题,可用于指导大型双反射面天线进行副面最佳位置调整,以减小因天线结构变形引起的副面位置偏差影响,使其电性能达到最优。

    一种天线面板调整方法及装置、电子设备和存储介质

    公开(公告)号:CN112528352B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202011275468.3

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本申请公开一种天线面板调整方法及装置、电子设备和存储介质,涉及天线的技术领域。该方法包括获取待调整天线面板的整体形状变形误差矩阵以及整体面板弹性矩阵;基于所述整体形状变形误差矩阵以及所述整体面板弹性矩阵,采用最小二乘法得到面板位移调整量;根据所述面板位移调整量调整所述待调整天线面板。本方案从弹性力学角度出发,通过待调整天线面板的整体面板弹性矩阵来描述天线面板的弯曲变形情况,从而充分考虑到了面板角点位置变化引起的面板表面弹性变形,通过整体形状变形误差矩阵来描述待调整天线面板的整体形状变形误差,并采用最小二乘法来获得最佳面板位移调整量,从而提高天线面板调整效率。

    副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置

    公开(公告)号:CN110531379B

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN201910822316.1

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 本申请提供一种副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置,应用于双反射面天线,双反射面天线包括主反射面和副反射面,副反射面的位姿调整量的确定方法包括:获得口径面的光程误差分布,其中,口径面与主反射面的口径对应;对光程误差分布进行拟合,确定出拟合结果;根据预设的整体对应关系和拟合结果,确定出副反射面的位姿调整量,其中,整体对应关系为副反射面的偏移量与拟合结果之间的对应关系。基于光学像差理论对双反射面天线中主反射面光程差的分布特征进行分析,获得拟合结果,并根据副反射面的偏移量与拟合结果的关系,可以高效准确地确定出副反射面的位姿调整量,从而能够补偿双反射面天线结构变形带来的影响。

    副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置

    公开(公告)号:CN110531379A

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201910822316.1

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 本申请提供一种副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置,应用于双反射面天线,双反射面天线包括主反射面和副反射面,副反射面的位姿调整量的确定方法包括:获得口径面的光程误差分布,其中,口径面与主反射面的口径对应;对光程误差分布进行拟合,确定出拟合结果;根据预设的整体对应关系和拟合结果,确定出副反射面的位姿调整量,其中,整体对应关系为副反射面的偏移量与拟合结果之间的对应关系。基于光学像差理论对双反射面天线中主反射面光程差的分布特征进行分析,获得拟合结果,并根据副反射面的偏移量与拟合结果的关系,可以高效准确地确定出副反射面的位姿调整量,从而能够补偿双反射面天线结构变形带来的影响。

    一种天线面板调整方法及装置、电子设备和存储介质

    公开(公告)号:CN112528352A

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN202011275468.3

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本申请公开一种天线面板调整方法及装置、电子设备和存储介质,涉及天线的技术领域。该方法包括获取待调整天线面板的整体形状变形误差矩阵以及整体面板弹性矩阵;基于所述整体形状变形误差矩阵以及所述整体面板弹性矩阵,采用最小二乘法得到面板位移调整量;根据所述面板位移调整量调整所述待调整天线面板。本方案从弹性力学角度出发,通过待调整天线面板的整体面板弹性矩阵来描述天线面板的弯曲变形情况,从而充分考虑到了面板角点位置变化引起的面板表面弹性变形,通过整体形状变形误差矩阵来描述待调整天线面板的整体形状变形误差,并采用最小二乘法来获得最佳面板位移调整量,从而提高天线面板调整效率。

    反射面天线远场方向图的重构方法和系统

    公开(公告)号:CN109613346B

    公开(公告)日:2020-11-13

    申请号:CN201811605789.8

    申请日:2018-12-28

    Abstract: 本发明提供了反射面天线远场方向图的重构方法和系统,包括:基于各阶标准泽尼克多项式组合描述典型波前误差;典型波前误差通过泰勒级数近似展开的远场方向图得到反射面天线的一阶影响方向图和二阶影响方向图;计算不含典型波前误差的理想远场方向图,根据理想远场方向图、一阶影响方向图和二阶影响方向图得到基本方向图数据;获取波前误差数据,并对典型波前误差进行泽尼克多项式拟合,得到系数向量;通过系数向量与基本方向图数据进行加权组合,得到反射面天线的远场方向图,该发明可以减少计算时间,快速的重构反射面天线的远场方向图。

    一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法

    公开(公告)号:CN106025550A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610365843.0

    申请日:2016-05-27

    CPC classification number: H01Q3/02

    Abstract: 本发明涉及一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法,该方法从天线电性能角度出发,确定了副反射面位置调整参数与远场电性能的关系式,并以副面调整后天线远场电性能最优为目标,建立了以副面调整参数为变量的优化模型,采用合适的优化算法,在可行域内获得了副面位置的最佳调整参数。依据该最佳调整参数驱动副面运动,实现副面位置偏差补偿。本发明主要用于解决现有双反射面天线因结构变形无法快速测量,进而难以快速确定副面最佳位置的问题,可用于指导大型双反射面天线进行副面最佳位置调整,以减小因天线结构变形引起的副面位置偏差影响,使其电性能达到最优。

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