一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法

    公开(公告)号:CN106025550A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610365843.0

    申请日:2016-05-27

    CPC classification number: H01Q3/02

    Abstract: 本发明涉及一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法,该方法从天线电性能角度出发,确定了副反射面位置调整参数与远场电性能的关系式,并以副面调整后天线远场电性能最优为目标,建立了以副面调整参数为变量的优化模型,采用合适的优化算法,在可行域内获得了副面位置的最佳调整参数。依据该最佳调整参数驱动副面运动,实现副面位置偏差补偿。本发明主要用于解决现有双反射面天线因结构变形无法快速测量,进而难以快速确定副面最佳位置的问题,可用于指导大型双反射面天线进行副面最佳位置调整,以减小因天线结构变形引起的副面位置偏差影响,使其电性能达到最优。

    一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法

    公开(公告)号:CN106025550B

    公开(公告)日:2018-11-27

    申请号:CN201610365843.0

    申请日:2016-05-27

    Abstract: 本发明涉及一种以电性能为目标的双反射面天线副面位置调整方法,该方法从天线电性能角度出发,确定了副反射面位置调整参数与远场电性能的关系式,并以副面调整后天线远场电性能最优为目标,建立了以副面调整参数为变量的优化模型,采用合适的优化算法,在可行域内获得了副面位置的最佳调整参数。依据该最佳调整参数驱动副面运动,实现副面位置偏差补偿。本发明主要用于解决现有双反射面天线因结构变形无法快速测量,进而难以快速确定副面最佳位置的问题,可用于指导大型双反射面天线进行副面最佳位置调整,以减小因天线结构变形引起的副面位置偏差影响,使其电性能达到最优。

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