公开(公告)号：CN119989627A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202411915257.X

申请日：2024-12-24

Applicant: 中国科学院微电子研究所

Inventor： 武志鹏 ,  齐月静 ,  王丹 ,  徐天伟 ,  孟璐璐 ,  朱莉玲

IPC: G06F30/20 ,  G03F7/20 ,  G06F30/27 ,  G06F30/17 ,  G06N20/00 ,  G06F111/06 ,  G06F111/10

Abstract: 本公开提供了对焦传感器光学参数和硅片膜层工艺参数的分析优化方法。方法包括：构建以对焦传感器光学参数和硅片膜层工艺参数作为输入，以高度工艺相关性误差作为输出的误差代理模型；构建训练数据集对误差代理模型进行训练，直至模型收敛；根据预设误差目标和参数寻优范围，利用误差代理模型对对焦传感器光学参数和硅片膜层工艺参数进行全局寻优，得到符合预设误差目标的最优参数集。本公开建立误差代理模型，在原理上高精度地逼近对焦传感器和硅片多膜层结构的物理模型，通过训练优化提升误差代理模型对真实情况的评估精度，结合参数寻优实现最优参数设计，不依赖于物理模型的解析计算，使参数分析优化过程具有更高的可实现性和更快的计算速度。