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公开(公告)号：CN108203807A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201611175322.5
申请日：2016-12-19
Applicant: 宁波森利电子材料有限公司 , 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/086 , C23C14/3414
Abstract: 本发明涉及一种具有优良环境稳定性的氧化锌透明导电材料及其制备方法。具体地，本发明公开了一种氧化锌薄膜的制备方法，所述方法包括如下步骤：1)提供经掺杂的氧化锌基靶材；2)将所述经掺杂的氧化锌基靶材置于磁控溅射设备中，抽真空达到第一压力；3)通入第一气体和第二气体的混合气体，直至腔体内部达到第二压力；4)在基片上使用所述经掺杂的氧化锌基靶材进行磁控溅射制膜，得到所述氧化锌薄膜。本发明还公开了以所述制备方法制得的氧化锌薄膜及其应用。所述氧化锌薄膜兼具优异光电特性和环境稳定性，因此可广泛应用于各种场合。所述制备方法具有工艺简单、成本低、可直接在现有设备上实施的特点。
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公开(公告)号：CN108203807B
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN201611175322.5
申请日：2016-12-19
Applicant: 宁波森利电子材料有限公司 , 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
Abstract: 本发明涉及一种具有优良环境稳定性的氧化锌透明导电材料及其制备方法。具体地，本发明公开了一种氧化锌薄膜的制备方法，所述方法包括如下步骤：1)提供经掺杂的氧化锌基靶材；2)将所述经掺杂的氧化锌基靶材置于磁控溅射设备中，抽真空达到第一压力；3)通入第一气体和第二气体的混合气体，直至腔体内部达到第二压力；4)在基片上使用所述经掺杂的氧化锌基靶材进行磁控溅射制膜，得到所述氧化锌薄膜。本发明还公开了以所述制备方法制得的氧化锌薄膜及其应用。所述氧化锌薄膜兼具优异光电特性和环境稳定性，因此可广泛应用于各种场合。所述制备方法具有工艺简单、成本低、可直接在现有设备上实施的特点。
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公开(公告)号：CN107393979B
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201710432901.1
申请日：2017-06-09
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: H01L31/0224 , H01L33/42 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种基于超薄金属膜的透明电极，所述透明电极自下而上依次包括透明基底、金属层和金属氧化物层，所述金属层的厚度为3～12nm。本发明通过单分子自组装层修饰基底，在基底上直接沉积超薄金属层，通过单分子自组装层的作用提高超薄金属膜的连续性和导电性；或通过金属的共沉积，直接在基底上实现超薄金属膜的连续生长。然后在上面沉积一层金属氧化物层作为减反增透层，得到双层膜系结构，通过对双层膜系结构的设计和优化，实现透过率的最大化。本发明还公开了该基于超薄金属膜的透明电极的制备方法及其在光电器件中的应用，该透明电极能同时兼顾良好导电性和高透光率。
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公开(公告)号：CN107393979A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710432901.1
申请日：2017-06-09
Applicant: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC: H01L31/0224 , H01L33/42 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L31/022466 , H01L31/022425 , H01L31/1888 , H01L33/42
Abstract: 本发明公开了一种基于超薄金属膜的透明电极，所述透明电极自下而上依次包括透明基底、金属层和金属氧化物层，所述金属层的厚度为3～12nm。本发明通过单分子自组装层修饰基底，在基底上直接沉积超薄金属层，通过单分子自组装层的作用提高超薄金属膜的连续性和导电性；或通过金属的共沉积，直接在基底上实现超薄金属膜的连续生长。然后在上面沉积一层金属氧化物层作为减反增透层，得到双层膜系结构，通过对双层膜系结构的设计和优化，实现透过率的最大化。本发明还公开了该基于超薄金属膜的透明电极的制备方法及其在光电器件中的应用，该透明电极能同时兼顾良好导电性和高透光率。
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