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公开(公告)号：CN112899620B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN201911225068.9
申请日：2019-12-04
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明属于薄膜沉积技术领域，具体涉及一种新型的SiC基底表面改性层的制备技术。与目前主流的磁控溅射技术制备SiC基底改性层不同，本发明使用射频离子束溅射技术。主要原理是使用高纯度的单晶硅靶为原材料。在真空下，使用无污染的射频离子源发射高能离子束轰击硅靶，当轰击粒子能量大于材料逸出功时，Si原子被溅射出靶材表面，以极高的动量沉积在SiC基底表面，最终形成改性层。该制备技术能够沉积极厚的Si改性层(25um以上)，制备的Si改性层晶型为各向同性的无定形态，具有极佳的可抛光性，实施例获得了0.15nm的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN105714256A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201410742990.6
申请日：2014-12-05
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射制备DLC薄膜的方法，采用在沉积室内引入一等离子体区域的方法，提高镀膜时工作气体的离化率，基于此种方法对传统磁控溅射技术的进行改进，采用中频或脉冲直流电源溅射石墨靶，并控制工作气体压强、温度、时间、溅射功率等工艺条件，在衬底上沉积DLC薄膜。使用本方法可以在低温环境下制备性能良好的DLC薄膜，提高SP3键含量。本发明可以为硬质薄膜的实验研究或工业生产提供样品。
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公开(公告)号：CN108616028A
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201611133316.3
申请日：2016-12-10
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种高热流密度的冷却方法，包括：圆形碟片状增益晶体；高热导率薄膜；带孔的射流喷嘴；带卡口的筒状外壁；焊料自吸收孔五部分组成。本发明利用带卡口的筒状外壁将圆形碟片状增益晶体夹持后，将晶体焊接于夹持结构上；采用原子沉积的方式在晶体后表面制备高热导率薄膜。利用射流喷嘴向热导率薄膜喷射冷却水，实现晶体高效换热，可大大提升碟片晶体的换热能力。
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公开(公告)号：CN106684682A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201510745489.X
申请日：2015-11-05
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
IPC: H01S3/08 , H01S3/086 , H01S3/117 , H01S3/0943
Abstract: 本发明涉及一种横流气体脉冲激光器，在增益介质流动方向上，将增益区分为上游增益区和下游增益区，在下游增益区两侧有激光谐振腔组件，构成谐振腔，通过声光调q的方法实现激光脉冲输出。而上游增益区有凹面镜、凸面镜、两面45°反射镜和刮刀镜，构成正支非稳腔组件，其中凹面镜中心留有小孔。在下游增益区谐振腔内设有缩束光学系统，由下游增益区通输出小束斑光束为平行光束，其通过上游增益区凹面镜的小孔注入到上游增益区，注入的激光光束在上游正支非稳腔内进行振荡，利用正支非稳腔放大作用，实现激光光束光斑尺寸的放大和多次传输的激光能量放大，激光光束照射到刮刀镜上光斑，将被刮刀镜反射输出谐振腔外，最终实现高能脉冲激光输出。
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公开(公告)号：CN103029374A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201110299864.4
申请日：2011-09-30
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种新型中高温太阳能光热选择性吸收涂层，该涂层共有五层组成，从吸热体基底表面到顶部依次为：第一层是扩散阻挡层；第二层是红外反射层；第三层为金属Ti与金属陶瓷复合薄膜，；第四层为金属Ti与金属陶瓷复合薄膜；第五层为单层减反射薄膜。在大气质量因子AM1.5条件下，涂层吸收率为95.5％，半球发射率为9.8％，该涂层具有良好的热稳定性，可长期在450℃内的真空环境下使用。本发明在太阳能热利用领域具有重要的实用价值和广阔的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114597736B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202011410918.5
申请日：2020-12-03
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及碟片激光器技术领域，特别涉及到一种基于Er的大能量2940纳米脉冲碟片激光器。包括沿着光路依次布设的泵浦源、准直匀化系统、多冲程泵浦腔及谐振腔，其中多冲程泵浦腔内设有碟片晶体、平凹非球面反射镜及多组棱镜组，平凹非球面反射镜为具有中心通孔的环形结构，平凹非球面反射镜用于接收泵浦源发射的泵浦光并且进行聚焦；碟片晶体设置于平凹非球面反射镜的聚焦中心位置，用于泵浦光抽运及产生激光束；多组棱镜组沿周向布设于碟片晶体的周围，用于泵浦光的二次角度转换并且以平行光的形式再次入射至平凹非球面反射镜上。本发明有效降低了晶体的热透镜效应，对于高量子亏损增益介质Er3+掺杂的晶体具有良好的散热效果，可获得更高功率的泵浦。
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公开(公告)号：CN113061861A
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN201911284817.5
申请日：2019-12-13
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于薄膜应力精确控制大曲率光学元件曲率半径的加工方法。这种控制方法是传统光学加工技术与镀膜技术相结合的方法，可以实现光学元件曲率半径大小的精确控制，特别利用了薄膜应力特性，将这种薄膜镀制到光学元件表面上，薄膜应力可以改变元件曲率半径，最终达到精确控制光学元件曲率半径的目的。同时该发明优势在于，在不影响元件的光学特性的前提下，根据薄膜厚度与应变的线性关系，通过沉积不同厚度的薄膜可以精确控制不同曲率半径的光学元件。该发明可以有效减少生产时间，提高效率。
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公开(公告)号：CN112981353A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911284799.0
申请日：2019-12-13
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种薄膜应力的消除方法，采用双离子束溅射镀膜技术，在光学基片上完成薄膜镀制之后，经过一系列的退火热处理，结合镀膜材料的热力学特性，控制退火热处理参数，如退火温度、退火时间、退火次数、升温/降温速率等工艺条件实现应力控制。根据所得到的实验现象，结合理论指导，建立了一套完整的薄膜应力消除工艺流程及理论体系。使用本方法可以在确保良好的薄膜光学特性的前提下对薄膜应力进行宏观调控。本发明可以为光学元件保形技术提供理论指导，可以为复杂光学薄膜、强光光学元件等的生产提供样品。
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公开(公告)号：CN109962400A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201711341763.2
申请日：2017-12-14
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种光束质量转化装置，其装置包括：半导体激光器；碟片激光器；掺镱石英光纤三部分组成。本发明利用光束质量M2＜200的半导体激光器对多冲程碟片激光器进行端面泵浦，获得连续多模、高光光转换效率激光输出，M2＜50。以碟片激光器输出的激光作为二级泵浦源，对掺镱石英光纤进行同带泵浦，获得具有低量子亏损(2％)，高光‑光转化效率，近衍射极限(M2＜2)的激光输出。本发明巧妙的利用了半导体激光器的高效性，碟片激光器的高效散热性和同带泵浦掺镱石英光纤输出的低量子亏损特性，实现了高功率，高光束质量的转化方法。
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公开(公告)号：CN106785854B
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201510824732.7
申请日：2015-11-23
Applicant: 中国科学院大连化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种氟化氢激光波长选择输出折叠非稳腔，该谐振腔包括凸形反射镜、45度偏振反射镜、45度全反射镜、凹形反射镜。其中凸形反射镜和凹形反射镜的反射面分别镀有短波长光高透过、长波长光高反射的反射膜，45度偏振反射镜的反射面镀有长波长光高透过、短波长光高反射的反射膜。利用腔内光学元件对腔内不同波长的振荡光的反射率不同，实现不同波长激光的选择性输出。通过腔内设置光学元件位置，分别实现腔内谐振光沿气流方向的束转动，提高输出光斑的空间分布均匀性。这种谐振腔其结构简单，能够实现氟化氢激光单谱线均匀输出。
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