半导体材料残余应力的测试装置及方法

    公开(公告)号:CN1834623A

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN200510055896.4

    申请日:2005-03-17

    Abstract: 一种半导体材料内部残余应力的测试装置,包括:一信号采集系统,该信号采集系统用于对采集的信号进行处理,得到样品的应力分布情况;一光学检偏棱镜,该光学检偏棱镜与信号采集系统连接;一光学起偏棱镜,该光学起偏棱镜置于光学检偏棱镜之前;一光弹性调制器,该光弹性调制器置于光学检偏棱镜和光学起偏棱镜之间;一激光光源,该激光光源提供光学系统的信号源。

    半导体材料残余应力的测试装置及方法

    公开(公告)号:CN100468044C

    公开(公告)日:2009-03-11

    申请号:CN200510055896.4

    申请日:2005-03-17

    Abstract: 一种半导体材料内部残余应力的测试装置,包括:一信号采集系统,该信号采集系统用于对采集的信号进行处理,得到样品的应力分布情况;一光学检偏棱镜,该光学检偏棱镜与信号采集系统连接;一光学起偏棱镜,该光学起偏棱镜置于光学检偏棱镜之前;一光弹性调制器,该光弹性调制器置于光学检偏棱镜和光学起偏棱镜之间;一激光光源,该激光光源提供光学系统的信号源。

    折射率渐变的光子晶体发光二极管结构

    公开(公告)号:CN103151440A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201310095993.0

    申请日:2013-03-25

    Abstract: 一种折射率渐变的光子晶体发光二极管结构,其包括:一衬底;一成核层,该成核层制作在衬底的上面;一缓冲层,该缓冲层制作在成核层的上面;一n型接触层,该n型接触层制作在缓冲层的上面,该n型接触层的一侧形成有一台面;一活性发光层,该活性发光层制作在n型接触层台面另一侧的上面;一p型电子阻挡层,该p型电子阻挡层制作在活性发光层的上面;一p型接触层,该p型接触层制作在p型电子阻挡层的上面;一折射率渐变阵列式光子晶体,该折射率渐变阵列式光子晶体制作在p型接触层上;一负电极,该负电极制作在n型接触层一侧的台面的上面;一正电极,该正电极制作在折射率渐变阵列式光子晶体的上面。

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