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发明公开
反射式介质手性超表面审中-实审

公开(公告)号：CN116338829A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202310273218.3

申请日：2023-03-17

Applicant: 中国科学院半导体研究所

Inventor： 申超 , 李子瑛 , 蒋耐 , 高晓梅 , 史建伟 , 魏钟鸣 , 郑厚植

IPC: G02B1/00 , G02B27/28

Abstract: 本公开提供一种反射式介质手性超表面，包括：衬底层，用于物理支撑作用；反射层，设于衬底层上，用于接收和反射圆偏振光，其中，圆偏振光包括左旋方向的圆偏振光和右旋方向的圆偏振光；介质微纳结构层，设于反射层上，用于对左旋方向的圆偏振光和右旋方向的圆偏振光进行差异性散射，以调控圆偏振光的强度。介质微纳结构层包括：阵列排布的纳米棒单元，其中，行与行之间的纳米棒单元沿纳米棒单元的长轴方向错位排列且错位方向相同，构成二维斜方格子周期性排列结构。该反射式介质手性超表面提高了器件的输出效率，减轻了对加工工艺的要求，保障了器件的成品率和量产。

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