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公开(公告)号：CN101881856B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200910083495.8
申请日：2009-05-06
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种调节GaAs基二维光子晶体微腔共振模式的方法，包括如下步骤：A、制作GaAs基二维光子晶体；B、将GaAs基二维光子晶体置于过氧化氢中氧化，在GaAs表面形成一定厚度的氧化层薄膜；C、在常温下用质量浓度为18％的盐酸溶液腐蚀GaAs基二维光子晶体表面层的氧化层，用微区PL光谱测量光子晶体的微腔模式的变化；D、重复步骤B和C，直至获得光子晶体微腔模式与量子点发光波长相等，产生共振，停止腐蚀。利用本发明，通过精确调节光子晶体孔洞的方法可以达到准确控制光子晶体微腔模式的目的，同时通过化学腐蚀可以改善孔洞侧壁的平滑度，提高光子晶体微腔的品质因子。
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公开(公告)号：CN101881856A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200910083495.8
申请日：2009-05-06
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种调节GaAs基二维光子晶体微腔共振模式的方法，包括如下步骤：A、制作GaAs基二维光子晶体；B、将GaAs基二维光子晶体置于过氧化氢中氧化，在GaAs表面形成一定厚度的氧化层薄膜；C、在常温下用质量浓度为18％的盐酸溶液腐蚀GaAs基二维光子晶体表面层的氧化层，用微区PL光谱测量光子晶体的微腔模式的变化；D、重复步骤B和C，直至获得光子晶体微腔模式与量子点发光波长相等，产生共振，停止腐蚀。利用本发明，通过精确调节光子晶体孔洞的方法可以达到准确控制光子晶体微腔模式的目的，同时通过化学腐蚀可以改善孔洞侧壁的平滑度，提高光子晶体微腔的品质因子。
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公开(公告)号：CN101865676B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200910081986.9
申请日：2009-04-15
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种测量光子晶体孔洞侧壁垂直度的方法，包括：在半绝缘砷化镓衬底上，外延生长一定厚度的AlGaAs牺牲层；在AlGaAs牺牲层上外延生长一定厚度的砷化镓；在砷化镓层上外延生长一定密度InAs量子点；外延生长一定厚度的砷化镓，将InAs量子点埋住；在砷化镓上采用等离子体化学气相淀积法(PECVD)镀上一层SiO2薄膜；在SiO2薄膜上悬涂一层电子束胶；采用电子束曝光法在电子束胶上制作光子晶体图形；采用反应离子刻蚀方法将电子束胶上的光子晶体图形转移至SiO2上，并去胶；采用扫描电镜(SEM)对样品进行测试，观测并计算光子晶体孔洞的垂直度。利用本发明，不用观察光子晶体孔洞截面，只测试光子晶体表面，便可测试出光子晶体孔洞侧壁垂直度。
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公开(公告)号：CN101865676A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200910081986.9
申请日：2009-04-15
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本发明公开了一种测量光子晶体孔洞侧壁垂直度的方法，包括：在半绝缘砷化镓衬底上，外延生长一定厚度的AlGaAs牺牲层；在AlGaAs牺牲层上外延生长一定厚度的砷化镓；在砷化镓层上外延生长一定密度InAs量子点；外延生长一定厚度的砷化镓，将InAs量子点埋住；在砷化镓上采用等离子体化学气相淀积法(PECVD)镀上一层SiO2薄膜；在SiO2薄膜上悬涂一层电子束胶；采用电子束曝光法在电子束胶上制作光子晶体图形；采用反应离子刻蚀方法将电子束胶上的光子晶体图形转移至SiO2上，并去胶；采用扫描电镜(SEM)对样品进行测试，观测并计算光子晶体孔洞的垂直度。利用本发明，不用观察光子晶体孔洞截面，只测试光子晶体表面，便可测试出光子晶体孔洞侧壁垂直度。
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