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公开(公告)号：CN2438725Y
公开(公告)日：2001-07-11
申请号：CN00254687.6
申请日：2000-09-22
Applicant: 中国科学院半导体研究所
Abstract: 本实用新型属于以强氧化剂和强还原剂为源生成氧化膜的外延设备。反应罩的上部有两个进气口,两个进气口分别连通气体源气路和液体源气路,在位于石英反应罩内的转台与两个进气口之间设有一块防止从气体源成液体源主路中进入的两路源气在反应室空间相遇的隔板,石英反应罩下端位于底座上,底座连通反应室腔并通过抽气管道与抽气泵相通,底座一侧还设有进样品窗口,底座上设使反应室腔内转杆转动的传动机构,两三通阀另一路相通热分解炉再相通抽气泵。
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