高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN1706882A

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN200410025135.X

    申请日:2004-06-11

    Abstract: 本发明公开了一种高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料的制备方法,其特征在于其制备方法如下:1)将高分子薄膜浸入含2%~6%的丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中,用钴源辐照,辐照剂量为8~22KGy,剂量率为0.14~0.38Gy/s,2)将按步骤1)得到的接枝高分子薄膜浸入含0.2wt‰~0.4wt‰的聚丙烯酸、聚乙二醇或聚谷氨酸的无机过饱和溶液中,在8~15℃条件下静置6~10天,即得本复合材料。本发明也公开了由此方法制得的复合材料。本发明具有方法简单、污染小、对基材品种选择限制性小等优点。

    高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN1328306C

    公开(公告)日:2007-07-25

    申请号:CN200410025135.X

    申请日:2004-06-11

    Abstract: 本发明公开了一种高分子薄膜与无机晶体涂层复合材料的制备方法,其特征在于其制备方法如下:1)将高分子薄膜浸入含2%~6%的丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸或丙烯酸的水溶液或丙酮溶液中,用钴源辐照,辐照剂量为8~22KGy,剂量率为0.14~0.38Gy/s,2)将按步骤1)得到的接枝高分子薄膜浸入含0.2wt‰~0.4wt‰的聚丙烯酸、聚乙二醇或聚谷氨酸的无机过饱和溶液中,在8~15℃条件下静置6~10天,即得本复合材料。本发明也公开了由此方法制得的复合材料。本发明具有方法简单、污染小、对基材品种选择限制性小等优点。

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