公开(公告)号：CN111399346A

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN202010290425.6

申请日：2020-04-14

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 张宗昕 ,  冷雨欣 ,  王成 ,  程欣 ,  王关德 ,  孙海轶 ,  彭宇杰 ,  王雪培

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、磁镜装置和椭球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而作用于靶材。泵浦激光脉冲作用于靶材而产生等离子体，等离子体被约束在磁镜装置中而产生EUV辐射，所产生的EUV辐射经椭球面镜反射而聚焦。本发明利用磁镜装置中非均匀磁场对等离子体的约束作用，提升LPP-EUV光源的功率输出能力并抑制LPP所产生的碎屑污染，从而保障EUV光刻系统的高效稳定运行。

公开(公告)号：CN104914680A

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201510270184.8

申请日：2015-05-25

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 张宗昕 ,  冷雨欣 ,  王成 ,  赵全忠 ,  王关德 ,  程欣 ,  李儒新

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射-循环装置、LPP-EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射-循环装置而在LPP-EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵浦激光源输出泵浦激光，进入LPP-EUV发生装置后作用于溶胶射流靶。本发明基于溶胶射流靶增强LPP-EUV光源的可靠性与稳定性，为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障。

公开(公告)号：CN111736433A

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN202010660667.X

申请日：2020-07-10

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 张宗昕 ,  冷雨欣 ,  王成 ,  程欣 ,  王关德 ,  孙海轶 ,  彭宇杰 ,  王雪培

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种基于椭球面镜-球面镜组合光收集的LPP-EUV光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、椭球面镜和球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而作用于靶材。泵浦激光脉冲作用于靶材而产生EUV光辐射，所产生的EUV光辐射经球面镜和椭球面镜反射而聚焦。本发明采用椭球面镜-球面镜组合的方式提高EUV光收集效率，从而进一步提升LPP-EUV光源的功率输出能力。

公开(公告)号：CN104914680B

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201510270184.8

申请日：2015-05-25

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 张宗昕 ,  冷雨欣 ,  王成 ,  赵全忠 ,  王关德 ,  程欣 ,  李儒新

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种基于溶胶射流靶的LPP-EUV光源系统，由溶胶发生装置、溶胶喷射-循环装置、LPP-EUV发生装置和泵浦激光源所构成。首先由溶胶发生装置产生溶胶，再经溶胶喷射-循环装置而在LPP-EUV发生装置内形成溶胶射流靶。由泵浦激光源输出泵浦激光，进入LPP-EUV发生装置后作用于溶胶射流靶。本发明基于溶胶射流靶增强LPP-EUV光源的可靠性与稳定性，为EUV光刻系统的高效稳定运行提供有力保障。