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公开(公告)号：CN1570579A
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN200410017868.9
申请日：2004-04-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01J11/00
Abstract: 一种啁啾脉冲纵向衍射干涉仪，其特征在于包括一光栅对，在该光栅对的输出光路上，依次设有半波片、分束片、偏振片、衍射透镜和面阵CCD光谱仪，一聚焦透镜位于所述分束片的一侧并平行于光栅对的输出光路，使垂直于该聚焦透镜的驱动光束经分光片反射的反射光束与透过分束片的探测光束共线。本发明的信号强度直接依赖于相位移动的大小，测量的灵敏度很高，可以测量微小的相位随时间的变化过程。
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公开(公告)号：CN1186621C
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN03115175.2
申请日：2003-01-27
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超快过程的探测装置，其构成和位置关系如下：光源经过第一分光镜分成透射的泵浦光和反射的探针光，该泵浦光经过脉冲展宽器件和第一延时光路系统后，被第一全反光镜反射并经第一汇聚透镜垂直照射在被测样品上，该探针光经第二全反光镜和第三全反光镜后被第二汇聚透镜聚焦到样品上，在该探针光相对于样品的反射光路上设置有第一探测器，在该探针光通过样品的透射方向设有第二探测器，所述的泵浦光的脉冲宽度经脉冲展宽器件被展宽为探针光脉冲宽度的几倍、几十倍或几百倍，所述的探针光与泵浦光共焦。本发明主要实用于测量半导体和透明介质等块体材料和纳米结构材料在超短脉冲激光作用下的驰豫过程，尤其是还能够详细地测量激发过程。
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公开(公告)号：CN1313805C
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN03150506.6
申请日：2003-08-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01J11/00
Abstract: 一种强激光脉冲光强分布测试系统，其特点是该系统沿光束前进方向依次有会聚透镜、第一劈板、第二劈板、成像透镜、中性衰减片、二维CCD摄象机并固定在一滑板上，该滑板放置在一个精密滑轨上，一计算机的输入端与该二维CCD摄象机的数据输出端相接，所述的第一劈板与激光光束的夹角为45°，第二劈板与第一劈板的反射光束的夹角亦为45°。利用本发明测量系统能够得到光束截面上的光强定量分布和细节。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100354616C
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200410017868.9
申请日：2004-04-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01J11/00
Abstract: 一种啁啾脉冲纵向衍射干涉仪，其特征在于包括一光栅对，在该光栅对的输出光路上，依次设有半波片、分束片、偏振片、衍射透镜和面阵CCD光谱仪，一聚焦透镜位于所述分束片的一侧并平行于光栅对的输出光路，使垂直于该聚焦透镜的驱动光束经分光片反射的反射光束与透过分束片的探测光束共线。本发明的信号强度直接依赖于相位移动的大小，测量的灵敏度很高，可以测量微小的相位随时间的变化过程。
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公开(公告)号：CN1493857A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN03150506.6
申请日：2003-08-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01J11/00
Abstract: 一种强激光脉冲光强分布测试系统，其特点是该系统沿光束前进方向依次有会聚透镜、第一劈板、第二劈板、成像透镜、中性衰减片、二维CCD摄象机并固定在一滑板上，该滑板放置在一个精密滑轨上，一计算机的输入端与该二维CCD摄象机的数据输出端相接，所述的第一劈板与激光光束的夹角为45°，第二劈板与第一劈板的反射光束的夹角亦为45°。利用本发明测量系统能够得到光束截面上的光强定量分布和细节。
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公开(公告)号：CN1431483A
公开(公告)日：2003-07-23
申请号：CN03115175.2
申请日：2003-01-27
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超快过程的探测装置，其构成和位置关系如下：光源经过第一分光镜分成透射的泵浦光和反射的探针光，该泵浦光经过脉冲展宽器件和第一延时光路系统后，被第一全反光镜反射并经第一汇聚透镜垂直照射在被测样品上，该探针光经第二全反光镜和第三全反光镜后被第二汇聚透镜聚焦到样品上，在该探针光相对于样品的反射光路上设置有第一探测器，在该探针光通过样品的透射方向设有第二探测器，所述的泵浦光的脉冲宽度经脉冲展宽器件被展宽为探针光脉冲宽度的几倍、几十倍或几百倍，所述的探针光与泵浦光共焦。本发明主要适用于测量半导体和透明介质等块体材料和纳米结构材料在超短脉冲激光作用下的超快过程，尤其是适用于测量激发过程。
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公开(公告)号：CN2674419Y
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：CN03209961.4
申请日：2003-08-22
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01J11/00
Abstract: 一种强激光脉冲光强分布测试系统，其特点是该系统沿光束前进方向依次有会聚透镜、第一劈板、第二劈板、成像透镜、中性衰减片、二维电荷耦合装置摄象机并固定在一滑板上，该滑板放置在一个精密滑轨上，一计算机的输入端与该二维电荷耦合装置摄象机的数据输出端相接，所述的第一劈板与激光光束的夹角为45°，第二劈板与第一劈板的反射光束的夹角亦为45°。利用本实用新型测量系统能够得到光束截面上的光强定量分布和细节。
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公开(公告)号：CN2630843Y
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN03228590.6
申请日：2003-01-27
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超快过程的探测装置，其构成和位置关系如下：光源经过第一分光镜分成透射的泵浦光和反射的探针光，该泵浦光经过脉冲展宽器件和第一延时光路系统后，被第一全反光镜反射并经第一汇聚透镜垂直照射在被测样品上，该探针光经第二全反光镜和第三全反光镜后被第二汇聚透镜聚焦到样品上，在该探针光相对于样品的反射光路上设置有第一探测器，在该探针光通过样品的透射方向设有第二探测器，所述的泵浦光的脉冲宽度经脉冲展宽器件被展宽为探针光脉冲宽度的几倍、几十倍或几百倍，所述的探针光与泵浦光共焦。本实用新型主要适用于测量半导体和透明介质等块体材料和纳米结构材料在超短脉冲激光作用下的超快过程，尤其是适用于测量激发过程。
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