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公开(公告)号:CN110330236A
公开(公告)日:2019-10-15
申请号:CN201910640397.3
申请日:2019-07-16
Applicant: 中国矿业大学
IPC: C03C17/25
Abstract: 本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的耐高温氧化铌薄膜制备方法,以卤化铌前驱体和复合添加剂滴加去离子水搅拌陈化制得含铌的胶体,采用提拉镀膜法或旋涂镀膜法在基底上镀膜,退火热处理获得氧化铌薄膜。本发明使用卤化铌前驱体代替常规的铌醇盐前驱体,减少了制备的氧化铌薄膜中的碳含量,在高温条件下减少了薄膜中碳的累积问题,有利于提高薄膜的光学性能与激光损伤阈值;复合添加剂中的螯合剂改善了成膜性能,使获得的薄膜表面均匀平整,内部缺陷少;耐高温添加剂则进一步增强了薄膜的耐高温特性。最终获得了具有在高温下拥有高激光损伤阈值的薄膜,解决了常规的溶胶凝胶氧化铌薄膜在高温下无法获得高激光损伤阈值的难题。
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公开(公告)号:CN110330236B
公开(公告)日:2021-08-31
申请号:CN201910640397.3
申请日:2019-07-16
Applicant: 中国矿业大学
IPC: C03C17/25
Abstract: 本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的耐高温氧化铌薄膜制备方法,以卤化铌前驱体和复合添加剂滴加去离子水搅拌陈化制得含铌的胶体,采用提拉镀膜法或旋涂镀膜法在基底上镀膜,退火热处理获得氧化铌薄膜。本发明使用卤化铌前驱体代替常规的铌醇盐前驱体,减少了制备的氧化铌薄膜中的碳含量,在高温条件下减少了薄膜中碳的累积问题,有利于提高薄膜的光学性能与激光损伤阈值;复合添加剂中的螯合剂改善了成膜性能,使获得的薄膜表面均匀平整,内部缺陷少;耐高温添加剂则进一步增强了薄膜的耐高温特性。最终获得了具有在高温下拥有高激光损伤阈值的薄膜,解决了常规的溶胶凝胶氧化铌薄膜在高温下无法获得高激光损伤阈值的难题。
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公开(公告)号:CN110512180B
公开(公告)日:2021-04-13
申请号:CN201910856198.6
申请日:2019-09-11
Applicant: 中国矿业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法,在可牺牲性基底上采用离子束溅射技术进行二氧化硅基底的重建,然后在新建的二氧化硅基底表面沉积薄膜材料,获得相应的光学功能,最后通过水浸泡溶解的方法除去原始的可牺牲性基底,获得高阈值薄膜。本发明采用了一种重建基底的方法,避免了常规的基底对薄膜阈值的不利影响,有利于提高薄膜的抗激光损伤能力;同时,由于本发明中的最终的二氧化硅基底是重建在一种容易去除的可牺牲性基底上面,可以非常方便的将原始基底除去,而不影响最终获得的薄膜的质量及性能。该方法解决了常规的激光薄膜无法克服基底主导损伤的局限性,提高了薄膜的激光损伤阈值。
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公开(公告)号:CN110512180A
公开(公告)日:2019-11-29
申请号:CN201910856198.6
申请日:2019-09-11
Applicant: 中国矿业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法,在可牺牲性基底上采用离子束溅射技术进行二氧化硅基底的重建,然后在新建的二氧化硅基底表面沉积薄膜材料,获得相应的光学功能,最后通过水浸泡溶解的方法除去原始的可牺牲性基底,获得高阈值薄膜。本发明采用了一种重建基底的方法,避免了常规的基底对薄膜阈值的不利影响,有利于提高薄膜的抗激光损伤能力;同时,由于本发明中的最终的二氧化硅基底是重建在一种容易去除的可牺牲性基底上面,可以非常方便的将原始基底除去,而不影响最终获得的薄膜的质量及性能。该方法解决了常规的激光薄膜无法克服基底主导损伤的局限性,提高了薄膜的激光损伤阈值。
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