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公开(公告)号：CN110512180B
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN201910856198.6
申请日：2019-09-11
Applicant: 中国矿业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，在可牺牲性基底上采用离子束溅射技术进行二氧化硅基底的重建，然后在新建的二氧化硅基底表面沉积薄膜材料，获得相应的光学功能，最后通过水浸泡溶解的方法除去原始的可牺牲性基底，获得高阈值薄膜。本发明采用了一种重建基底的方法，避免了常规的基底对薄膜阈值的不利影响，有利于提高薄膜的抗激光损伤能力；同时，由于本发明中的最终的二氧化硅基底是重建在一种容易去除的可牺牲性基底上面，可以非常方便的将原始基底除去，而不影响最终获得的薄膜的质量及性能。该方法解决了常规的激光薄膜无法克服基底主导损伤的局限性，提高了薄膜的激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN110512180A
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201910856198.6
申请日：2019-09-11
Applicant: 中国矿业大学
Abstract: 本发明公开了一种具有高激光损伤阈值的激光薄膜的制备方法，在可牺牲性基底上采用离子束溅射技术进行二氧化硅基底的重建，然后在新建的二氧化硅基底表面沉积薄膜材料，获得相应的光学功能，最后通过水浸泡溶解的方法除去原始的可牺牲性基底，获得高阈值薄膜。本发明采用了一种重建基底的方法，避免了常规的基底对薄膜阈值的不利影响，有利于提高薄膜的抗激光损伤能力；同时，由于本发明中的最终的二氧化硅基底是重建在一种容易去除的可牺牲性基底上面，可以非常方便的将原始基底除去，而不影响最终获得的薄膜的质量及性能。该方法解决了常规的激光薄膜无法克服基底主导损伤的局限性，提高了薄膜的激光损伤阈值。
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