公开(公告)号：CN101652444B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200880011419.X

申请日：2008-06-24

Applicant: 中国涂料株式会社

Inventor： 田中秀幸 ,  冈田昌满 ,  本间瑞穗 ,  西健志 ,  仁井本顺治

IPC: C09D201/00 ,  A01N43/80 ,  A01N47/04 ,  A01N55/02 ,  A01N55/08 ,  A01P17/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02

CPC classification number: C09D5/1612 ,  A01N55/08 ,  C08G77/46 ,  C09D5/1675 ,  C09D5/1687 ,  C09D183/04 ,  A01N25/22 ,  A01N2300/00

Abstract: 本发明的目的是提供尽管含有作为防污剂的三苯基硼化合物，但制造时和长期贮藏时其分解都被抑制的贮藏稳定性及所得防污涂膜的静置防污性良好的防污涂料组合物。本发明的防污涂料组合物至少包含(A)涂膜形成性树脂和(B)作为防污剂的三苯基硼·胺络合物(b1)，该组合物的特征在于，还含有作为所述三苯基硼·胺络合物(b1)的分解抑制剂的该成分(b1)以外的(C)胺化合物。较好的是相对于所述成分(b1)100重量份，含有1.0～210重量份的所述成分(C)。

公开(公告)号：CN111417834A

公开(公告)日：2020-07-14

申请号：CN201880076721.7

申请日：2018-12-27

Applicant: 中国涂料株式会社

Inventor： 本间瑞穂 ,  西健志 ,  川端裕寿 ,  角一正树

IPC: G01B11/06 ,  G01B11/26 ,  G01N21/3563

Abstract: 提供一种能够基于来自测量对象的电磁波反射强度以非接触方式高精度地测量各种参数的测量装置及其关联技术。提供一种测量装置及其关联技术，所述测量装置为不与测量对象接触的非接触式，并包括：检测器，测量来自被照射有电磁波的测量对象的电磁波反射强度；距离计，计测距测量对象的距离；以及偏离角度计测机构，计测测量对象与测量装置偏离正对的偏离角度。

公开(公告)号：CN111417834B

公开(公告)日：2022-07-12

申请号：CN201880076721.7

申请日：2018-12-27

Applicant: 中国涂料株式会社

Inventor： 本间瑞穂 ,  西健志 ,  川端裕寿 ,  角一正树

IPC: G01B11/06 ,  G01B11/26 ,  G01N21/3563

Abstract: 提供一种能够基于来自测量对象的电磁波反射强度以非接触方式高精度地测量各种参数的测量装置及其关联技术。提供一种测量装置及其关联技术，所述测量装置为不与测量对象接触的非接触式，并包括：检测器，测量来自被照射有电磁波的测量对象的电磁波反射强度；距离计，计测距测量对象的距离；以及偏离角度计测机构，计测测量对象与测量装置偏离正对的偏离角度。

公开(公告)号：CN101652444A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200880011419.X

申请日：2008-06-24

Applicant: 中国涂料株式会社

Inventor： 田中秀幸 ,  冈田昌满 ,  本间瑞穗 ,  西健志 ,  仁井本顺治

IPC: C09D201/00 ,  A01N43/80 ,  A01N47/04 ,  A01N55/02 ,  A01N55/08 ,  A01P17/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02

CPC classification number: C09D5/1612 ,  A01N55/08 ,  C08G77/46 ,  C09D5/1675 ,  C09D5/1687 ,  C09D183/04 ,  A01N25/22 ,  A01N2300/00

Abstract: 本发明的目的是提供尽管含有作为防污剂的三苯基硼化合物，但制造时和长期贮藏时其分解都被抑制的贮藏稳定性及所得防污涂膜的静置防污性良好的防污涂料组合物。本发明的防污涂料组合物至少包含(A)涂膜形成性树脂和(B)作为防污剂的三苯基硼·胺络合物(b1)，该组合物的特征在于，还含有作为所述三苯基硼·胺络合物(b1)的分解抑制剂的该成分(b1)以外的(C)胺化合物。较好的是相对于所述成分(b1)100重量份，含有1.0～210重量份的所述成分(C)。